문서의 임의 삭제는 제재 대상으로, 문서를 삭제하려면 삭제 토론을 진행해야 합니다. 문서 보기문서 삭제토론 삼성종합기술원 (문단 편집) == 연구소 위치 == * 대한민국 * SAIT : 1987년 설립 * 수원 미래기술캠퍼스 (경기도 수원시 영통구 삼성로 130, 우편번호 : 16678) * 북미 * SAIT America : 2011년 설립 * 실리콘밸리 (665 Clyde Ave. Mountain View, CA 94043) : AI 및 neural network processors 관련 연구 * 보스턴 (3 Van De Graaff Dr. STE 4 Brurlington MA 01803) : 차세대 소자 관련 연구 * 파사데나 (2N Lake Ave, Ste 230, Pasadena, CA 91101) : 차세대 이미지 센서 관련 연구 * SAIT AI Lab Montreal (6666 St Urbain St, Suite 200, Montreal, QC H2S 3H1) : AI 알고리즘 관련 연구 * 유럽 * SAIT Europe : 2007년 설립 * 런던 (Communications House, South Street, Staines-upon- Thames, Surrey, TW18 4QE, UK., Staines-Upon-Thames, United Kingdom) * 프랑크푸르트 (Am Kronberger Hang 6, 65824 Schwalbach am Taunus, Germany) * SAIT Russia : 1995년 설립 * 모스크바 (Office 1401, 12, Dvintsev Street, Building 1, Moscow, 127018, Russia) : 차세대 디스플레이 및 헬스케어 등 광학 관련 연구 * SAIT Ukraine : 2009년 설립 * 키이우 (57 L'va Tolstogo Street, Kiev Ukraine 01032) : 정보 보안, 컴퓨터 비전, 지능형 서비스 관련 연구 * 아시아 * SAIT India : 1996년 설립 * 방갈로 (Phoenix B'd, Bagmane Constellation business Park Bangalore Karnataka, India 06765) : IT 및 SW 관련 연구 * SAIT China : 2008년 설립 * 베이징 (100028 (17F A-29), Sun Palace Building, No.12-A, Taiyanggong Mid Road, Chaoyang District, Beijing) : 컴퓨터 비전 및 인공지능 관련 연구 * 시안 (B-1 Building, Xian Software Town Phase 2, No. 156 Tiangu 8th Rd, Hi-tech Zone, XiAn, Shaanxi, China) * SRJ Japan (Samsung R&D Japan) : 1992년 설립 * 요코하마 (2-7 Sugasawa-cho, Tsurumu-ku, Yokohama, Japan) : 가전, 이미지 처리, 전자재료, 2차전지 관련 연구 * 오사카 (Minoh Semba Center Bldg., 2-1-11 Semba Nishi, Mino, Osaka, Japan) : 디스플레이 재료, 세라믹, 배터리 관련 연구 * 누리집 : [[https://www.sait.samsung.co.kr]]저장 버튼을 클릭하면 당신이 기여한 내용을 CC-BY-NC-SA 2.0 KR으로 배포하고,기여한 문서에 대한 하이퍼링크나 URL을 이용하여 저작자 표시를 하는 것으로 충분하다는 데 동의하는 것입니다.이 동의는 철회할 수 없습니다.캡챠저장미리보기