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겟앰프드/액세서리/ㄹ 액세서리 표기법
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| 15세 클라이언트(HARDCORE) 에 대응하는 액세서리.
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| 리뉴얼 또는 밸런스 조정된 액세서리.
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| RM(900 RM)[1] 보급상자 초창기에 판매되었던 화염의 보급상자, 이스터 섬의 보물함 등도 포함.
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| 액세서리 보급상자(1900 RM) 액세서리. 보급상자 상품이나 전용 마일리지 상품이 포함됩니다.
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| 판도라의 보급상자(2900 RM) 액세서리. 보급상자 상품이나 전용 마일리지 상품이 포함됩니다.
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| 레어 액세서리. 메달샵 액세서리나 이벤트, 출석, 합성 액세서리는 여기에 포함합니다.
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| 액세서리 제작, 액세서리 업그레이드로 만들 수 있는 액세서리.
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| 삭제된 액세서리.
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- 액세서리 기재 순서는 가나다순 입니다.
- 에픽 액세서리, 계승 액세서리는 따로 항목을 두어 구분합니다.
- 팔레트 스왑 액세서리의 경우 원본 액세서리의 하위 문서로 기재합니다.
- 기본적으로 총 MP는 50이며, MP가 변화하는 경우 따로 기재합니다.
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2011년 할로윈 이벤트로 처음 뿌렸던 액세서리. 그 이전에도 할로윈 이벤트 때마다 기간제 형태로 판매했었으나 무제한을 뿌린 건 2011년이 처음이다. 이벤트 기간 동안
할로윈 보물상자[1] 이벤트 기간 동안 나무 보물상자가 이것으로 바뀌었다. 필요 점수는 나무 보물상자의 절반인 2500점.
나 낚시로 얻을 수 있는
할로윈 상자를 통해 확률적으로 얻을 수 있었다.
본래 착용 가능 캐릭터가 크게 제한됐었으나
[2] 루나틱 문을 착용할 수 있는 캐릭터는 프랑켄 볼트를 착용할 수 없었다.
2011년 할로윈 이벤트와 함께 리뉴얼되어 안드로이드를 제외한 모든 캐릭터가 착용할 수 있게 되었다.
Z+XC 로 늑대 인간 으로 변신하는데, 본래 외형에 귀, 입, 손, 발, 꼬리가 추가되는 형태다. 파라미터가 변화
[3]하고 기술도 모두 바뀐다. 2011년 할로윈 이벤트와 함께 리뉴얼되면서 변신의 지속 시간이 늘어나고 MP 소모는 줄어들었다. 뿐만 아니라 변신 상태에서의 기술도 C를 제외하고 모두 상향되었다.
기술표
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Z+C(모으기 가능)
전방으로 화살을 발사하는 기술입니다.
모으기로 사용 시 화살이 정지하고 나서 약 2초 후 발사됩니다.
커맨드(앞→뒤→앞)+XC 기술로 설치된 폭풍에 화살이 빨려 들어가 나선형으로 공격합니다.
나선형으로 공격하는 화살은 전 방향 방어할 수 있습니다.
연속으로 사용할 수 없는 기술입니다.
모으기 사용 시 정지 중인 화살의 대미지가 반감됩니다.
MP를 2.1 소비합니다.
모으기 사용 시 MP를 3.0 소비합니다.
Z+X
전방을 자동으로 조준하여 조준된 지점에 화살을 3연속 발사하는 기술입니다.
떨어진 화살은 잠시 후 낙뢰를 발생시키며 폭발합니다.
화살과 낙뢰는 넘어진 상대를 공격할 수 있으며 넘어진 상대 공격 시 대미지가 반감됩니다.
연속으로 사용할 수 없는 기술입니다.
MP를 4.2 소비합니다.
D+XC
활로 상대를 제압 후 공중으로 띄워 올려 심판하는 기술입니다.
MP를 4.2 소비합니다. (기술 명중 시 MP를 추가로 2.1 소비합니다.)
V+XC
공중에서 화살을 대각선 아래로 발사하는 기술입니다.
착탄된 화살은 잠시 후 낙뢰를 발생시키며 폭발합니다.
화살과 낙뢰는 넘어진 상대를 공격할 수 있으며 넘어진 상대 공격 시 대미지가 반감됩니다.
낙뢰는 전 방향으로 방어할 수 있습니다.
MP를 4.2 소비합니다.
Z+XC
전방으로 빠르게 화살을 방출하는 장거리 기술입니다.
해당 기술은 상대가 방어할 수 없습니다.
MP를 4.2 소비합니다.
커맨드(앞→뒤→앞)+XC
화살을 날려 착탄 지점에 폭풍을 설치하는 트랩 기술입니다.
주위의 상대를 트랩 안으로 끌어당기고, 트랩 안의 상대의 전기 속성 내성을 -50%만큼 감소시킵니다.
지속시간은 약 20초 동안 유지되며, 연속으로 사용 시 기존에 설치된 트랩이 제거됩니다.
화살 착탄 시 넘어진 상대를 공격할 수 있습니다.
MP를 4.2 소비합니다.
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3. 루미너스 스피릿 ◆[편집]
기술표
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- C→C→C(1, 2타째 사용 후 XC 파생 가능) - 파생시 MP 3.0
빛의 정령을 이용한 3단 공격입니다. 3타째는 전방으로 광선을 쏩니다. 1, 2타째 사용 후 [XC] 버튼을 입력하여 빛의 정령을 발광시켜 상대를 기절시키는 파생 기술을 사용할 수 있습니다.
- X→X(1타째 사용 후 XC 파생 가능) - 파생시 MP 3.0
어둠의 정령을 이용한 2단 공격입니다. 1타째의 대미지는 C 공격과 동일하지만 2타째의 대미지는 높고 추격이 쉽습니다. 1타째 사용 후 [XC] 버튼을 입력하여 어둠의 정령으로 어둠의 빛을 방출하여 공격할 수 있습니다. 발생은 느리지만, 자신은 공중으로 날아오르기 때문에 빈틈에 노출되는 시간이 낮아집니다.
빛의 정령이 지면에 뛰어듦과 동시에 대폭발을 일으키고, 빛이 지면을 흐릅니다. 범위가 넓고 중거리 공격과 원거리 공격의 폭발은 넘어진 상대에게도 명중됩니다. 단, 넘어져 있는 상대에게 명중 시에는 대미지가 반감됩니다. 모으기를 유지하면 거대한 빛의 필드를 지면에 출현시킵니다. 필드를 밟고 있는 상태에서 상대에게 공격을 가하면 대미지의 25%에 해당하는 MP를 흡수할 수 있습니다. (연습모드 및 BOT 매치 이외의 NPC에게는 효과 없음, 사용자에게도 효과 있음) 필드의 지속시간은 약 20초입니다.
어둠의 정령이 지면에 뛰어듦과 동시에 지속이 긴 어둠의 불꽃을 일으켜 띄웁니다. 넘어져 있는 상대에게 명중 시에는 대미지가 반감됩니다. 모으기를 유지하면 거대한 어둠의 필드를 지면에 출현시킵니다. 필드를 밟고 있는 상태에서 상대에게 공격을 가하면 대미지의 1.5배가 증가된 대미지를 줄 수 있습니다. (연습모드 및 BOT 매치 이외의 NPC에게는 효과 없음, 사용자에게도 효과 있음) 필드의 지속시간은 약 20초입니다.
빛을 날려 명중한 상대를 자신의 앞으로 전송시켜 어둠의 정령으로 공격하는 원거리 콤보 기술입니다.
빛과 어둠의 힘을 합쳐 에너지탄을 발사하여 폭발시키는 기술입니다. 공중으로 떠오른 상대에게 추가 타격은 불가합니다.
전방으로 빛과 어둠의 레이저를 회전하며 발사하는 장거리 공격입니다. 대미지와 범위는 우수하지만 사용자가 무적 시간에 돌입하는 타이밍이 약간 느린 편입니다. 방어가 가능한 기술입니다.
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RM 보급상자의 경품으로 등장했던 액세서리. 빛과 어둠의 정령을 이용해 상대의 MP를 흡수하거나 대미지를 증폭시키는 기술을 사용할 수 있다. 이전에 상점악으로 출시된 엘리멘탈 스피릿의 레어 버전이라고 생각할 수 있지만 괜히 상자 악세가 아닌지라 성능이 전혀 딴판이다.
정령의 힘을 사용하는 모든 기술이 고정 대미지이기 때문에 바운티헌터에 끼고 마크 대미지로 공격력을 증가시키는 것이 일반적이다. 또한 시티같은 맵에서 스카우트에 착용하여 레이더로 상대의 움직임을 읽고 Z+XC를 날려 번지시키는 용도로도 사용할 수 있다. 물론 시티에서 지나치게 방안 계단에서 대기타다가 밖을 향해 Z+XC만 날려대면 다른 유저들에게 다굴 대상으로 지정되기 쉽다. 기술들의 좋은 판정과 XC 파생기, 장판 등을 이용해 상대를 농락할 수 있으며 특히 Z+C 하나로 무한콤보가 가능하기 때문에 1:1에서도 전혀 꿇리지가 않는다.
빛 장판의 MP 흡수 기능과 어둠 장판의 대미지 증폭량이 워낙 좋기 때문에 챌린지 등에서 에픽 액세서리의 MP 회복 및 댐딜뻥 셔틀로 자주 이용된다. 대표적으로 레이드 챌린지 another가 있다.
4. 루미너스 스피어 ◆◆[편집]
기술표
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● 무기 아이템을 사용할 수 없습니다.
● 특수 효과: 오토 리페어
성창 상태에서는 HP가 지속적으로 소량 회복하는 패시브를 가지고 있지만,
HP가 50%로 떨어지게되면 창이 마창으로 변화하고, HP가 지속적으로 소량 감소하는 효과가 발생됩니다.
C→C→C
창으로 3회에 걸쳐 베는 3단 기술입니다.
X→X
창으로 옆을 벤 후 높게 베어 올리는 기술입니다.
D+C
창으로 상대를 찔러 넘어트리지 않고 공격하는 기술입니다.
D+X
창으로 상대를 높게 베어 올리는 기술입니다.
V+C
라이벌 캐릭터의 무릎 공격입니다.
일반 및 퓨전 캐릭터가 착용해도 무릎 공격을 사용합니다.
V+X
창으로 상대를 찍어눌러 넘어트리지 않고 공격하는 기술입니다.
Z+C
창에서 성스러운 빛을 방출하는 기술입니다.
MP를 3.0 소비합니다.
Z+X
창으로 상대를 깊게 찔러 성스러운 빛으로 심판하는 기술입니다.
MP를 3.0 소비합니다.
D+XC
성스러운 창을 앞세워 전방을 향해 빠르게 돌진하는 기술입니다.
X, C, XC를 입력하여 파생기술을 발생시킬 수 있습니다.
MP를 4.2 소비합니다. (파생 기술 사용 시 MP를 추가로 0.6 소비합니다.)
(X)
창을 대각선 위로 찌르며 상승하는 기술입니다.
(C)
창을 대각선 아래로 찌르며 하강하는 기술입니다.
(XC)
창을 전방으로 향하여 찌르며 상대를 띄워 올리는 기술입니다.
V+XC
성스러운 창을 지면에 던져 8방향으로 빛을 발생시키는 기술입니다.
MP 4.2 소비합니다.
Z+XC
창을 치켜들어 연속으로 찌르는 난무 기술입니다.
기술 사용 시 슈퍼아머 효과가 있습니다.
MP를 4.2 소비합니다. (기술 명중 시 MP를 추가로 2.1 소비합니다.)
● 마창으로 각성 시 변화하는 기술
● 각 기술의 속성이 빛에서 어둠으로 변화됩니다.
● 마창으로 변화 후 모든 능력치가 +2만큼 증가합니다.
X→X
공격의 히트효과가 변경되며, 공중 상태의 상대에게 기술 명중 시 수직으로 띄워 올립니다.
D+X
공격의 히트효과가 변경되며, 공중 상태의 상대에게 기술 명중 시 수직으로 띄워 올립니다.
Z+C
기술의 범위가 두 갈래로 소폭 강화됩니다.
상대를 넘어트리지 않게 강화됩니다.
MP를 3.0 소비합니다.
Z+X
발생 전 전방을 자동으로 추적하는 기술로 강화됩니다.
상대방이 방어할 수 없게 강화됩니다.
MP를 3.0 소비합니다.
D+XC
상대방이 방어할 수 없게 강화됩니다.
돌진 상태 중 무적 효과가 있습니다.
MP를 4.2 소비합니다. (파생 기술 사용 시 MP를 추가로 0.6 소비합니다.)
V+XC
상대방이 방어할 수 없게 강화됩니다.
MP 4.2 소비합니다.
Z+XC
발생 전 무적 시간이 추가됩니다.
명중 시 상대방의 HP를 10만큼 흡수합니다.
상대가 방어할 수 없게 기술이 강화됩니다.
MP를 4.2 소비합니다. (기술 명중 시 MP를 추가로 2.1 소비합니다.)
Co+C, Co+X
창으로 빠르게 베어 제압하는 반격 기술입니다.
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5. 루비콘 다이스 ◆[편집]
기술표
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● 특수 능력: 다이스의 눈
다이스를 던지는 기술 사용 시 던져진 다이스의 눈의 종류와 합계가 카운트됩니다.
카운트된 다이스의 눈의 종류와 합계는 좌측 하단에 표시됩니다.
카운트가 적용되는 기술에 대해서는 별도로 (★) 표시를 해두었습니다.
C→C→C (★)
주먹으로 가볍게 2회 공격 후 다이스를 던지는 기술입니다.
던져진 다이스는 잠시 후에 폭발합니다.
X→X (★)
바디 블로 이후 다이스를 던지는 기술입니다.
던져진 다이스는 잠시 후에 폭발합니다.
Z+C (★)
다이스를 공중으로 던져 빔 블레이드가 튀어나와 공격하는 기술입니다.
기술의 지속 시간이 길기 때문에 상대를 압박할 수 있습니다.
MP를 3.0 소비합니다.
Z+X (★)
반드시 다이스의 눈이 6으로 나오는 다이스를 던지는 기술입니다.
던져진 다이스는 지면에 남아 있으며, 3회 공격을 받거나 일정 시간이 지나면 폭발합니다.
또한, 다이스를 이용해 직접 공격하여 상대에게 피해를 입힐 수도 있습니다.
MP를 3.0 소비합니다.
D+XC (★)
다이스로 제압하여 하이 또는 로우로 승부하는 기술입니다.
1번째 명중 시에는 랜덤한 눈을 내면서 약한 피해를 입힙니다.
2번째 이후 명중 시에는 사용자가 “임의로 내고 싶은 눈”을 마우스로 선택하고,
상대가 “앞의 눈과 비교해서 하이 또는 로우를 선택합니다.
다만, 4이상은 동일해도 하이로 취급합니다.
정답 또는 오답 여부와 관계없이 상대는 폭발 피해를 입지만,
오답 시마다 대미지가 증가하고 5회 틀리면 최대 대미지가 적용됩니다.
NPC에게 명중하면 하이 또는 로우를 랜덤으로 선택합니다.
해당 기술은 상대가 방어할 수 없습니다.
MP를 2.1 소비합니다. (2회째 이후 명중 시 MP를 추가로 2.1 소비합니다.)
V+XC (★)
공중에서 비스듬하게 지면을 향해 3회 흔드는 다이스를 던지는 기술입니다.
던져진 다이스는 잠시 후에 폭발하여 공격합니다.
다이스 자체에는 공격 판정이 없습니다.
MP를 3.0 소비합니다.
Z+XC
다이스를 거대화시켜 던진 다음 폭발시키는 기술입니다.
다이스의 크기 및 대미지는 지금까지 카운트된 다이스 눈의 합계에 비례하여 변화합니다.
다이스의 크기 및 대미지가 최대로 적용되는 눈의 합계는 100이며,
눈의 합계가 100을 초과하더라도 다이스의 크기 및 대미지는 변화하지 않습니다.
기술 사용 후에는 눈의 합계가 초기화 됩니다.
해당 기술은 상대가 방어할 수 없습니다.
MP를 2.1 소비합니다. (기술 명중 시 MP를 추가로 4.2 소비합니다.)
커맨드(앞→뒤→앞)+XC
사용자의 MP를 25.0만큼 회복하는 보조 기술입니다.
MP가 최대치 이상으로는 회복되지 않습니다.
다이스의 눈을 1부터 6까지 모두 모은 상태에서만 사용할 수 있습니다.
기술 사용 후에는 눈의 종류가 초기화 됩니다.
MP를 소비하지 않습니다.
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기술표
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● [루비콘 다이스] 액세서리의 스페셜 버전으로 액세서리 외형 및 일부 기술에 차이가 있지만,
나머지 기술들은 모두 [루비콘 다이스] 액세서리와 동일합니다.
C→C→C
기존 [루비콘 다이스] 액세서리의 C→C→C 기술을 사용하지만,
마지막 공격 시 3개의 다이스를 던집니다.
X→X
기존 [루비콘 다이스] 액세서리의 X→X 기술을 사용하지만,
마지막 공격 시 3개의 다이스를 던집니다.
Z+X
기존 [루비콘 다이스] 액세서리의 Z+X 기술을 사용하지만,
다이스를 연속으로 던질 수 있습니다.
폭발하는 다이스는 사용자를 공격하지 않습니다.
MP를 3.0 소비합니다.
V+XC
기존 [루비콘 다이스] 액세서리의 V+XC 기술을 사용하지만,
기술 사용 시 5개의 다이스를 던집니다.
폭발하는 다이스는 공격한 상대를 멀리 날려버립니다.
커맨드(앞→뒤→앞)+XC
기존 [루비콘 다이스] 액세서리의 커맨드(앞→뒤→앞)+XC 기술을 사용하지만,
기술 사용 시 사용자의 HP도 함께 회복합니다.
HP 및 MP는 최대치 이상으로는 회복되지 않습니다.
MP를 소비하지 않습니다.
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기술표
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● 특수능력 : 부활, 변신
자신 스스로 번지를 하거나 NPC에 의해 번지를 당할 경우
남은 체력의 25%를 소모하여 변신, 부활하는 효과를 가집니다.
NPC나 자신의 팀원이 아닌, 타인에 의해서 번지를 당하게 되면
별다른 체력과 MP소모 없이 변신하며 부활하게 됩니다.
변신 후에는 일부 기술의 성능이 강화되거나 추가되며,
모든 파라미터를 1씩 증가시키는 효과가 있습니다.
● 변신 전
Z+X
머리에 위치한 링을 날려 상대를 띄웁니다.
「천사의 링」의 Z+X 기술과 같이 상대를 띄운 뒤 추가타 하거나
공중의 상대에게 연속해서 맞추는 것이 가능합니다.
MP를 소비합니다.
V+XC
발에 장착한 링을 지면에 날려 맞은 적을 띄웁니다.
맞은 대상은 높이 뜨지만 사용 후 경직이 커서 추가타가 불가능합니다.
MP를 소비합니다.
● 변신 후
Z+C
지면에서 기둥을 소환한 뒤 공중에 떠올라 발로 차서 기둥을 무너뜨립니다.
기둥이 솟아오를 때 판정이 있어서 기둥에 맞은 적은 높이 떠오릅니다.
또한 기둥이 지면에 떨어질 때 맞은 대상은 강한 타격을 받고 멀리 날아가게 됩니다.
기둥은 넘어진 상대에게도 명중시킬 수 있으며, 이때는 공격 판정이 상대를 내려찍는 판정으로 변화합니다.
발동 중 공중에 떠올라 적의 공격을 회피하며, 착지 도중에 공중 기술을 사용할 수 있습니다.
MP를 소비합니다.
Z+X
변신 전 Z+X 기술과 동일하지만 잔상이 생기는 이펙트가 추가됩니다.
MP를 소비합니다.
V+XC
변신 전 V+XC와 동일한 형태이지만, 발동이 빨라지고 딜레이가 줄어듭니다.
또한 기술 사용 후 곧바로 착지하여 추가타가 가능합니다.
D+XC
상대방을 손가락으로 찔러 타격을 입힌 뒤 폭파시켜 멀리 날려버리는 공격입니다.
스킬이 발동하는 지점에 있는 주변의 대상도 함께 공격합니다.
발동이 느려 시간차 공격을 할 수 있습니다.
MP를 소비합니다.
Z+XC
지면에서 옥좌가 솟아나 시전자가 앉을 때 정면에서 공격받게 되면,
앞으로 2갈래의 기둥이 솟아오른 뒤 한꺼번에 폭발합니다.
솟아오르는 기둥에 판정이 있어 대상을 띄우고 폭발시켜 2Hit 합니다.
기둥이 솟아오르기 까지는 어느 정도 시간이 있어, 스피드가 빠르다면
피하는 것이 가능합니다.
MP를 소비합니다.
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G머니 액세서리 '천사의 링'의 강화 버전. 번지로 사망할 시 타천사의 분노를 받아 더욱 강해진 모습으로 부활한다. 스스로 번지하여 자살하면 체력의 4분의 1을 깎고 부활하며, 상대에게 번지 당했을 때에는 체력 소모도 없이 자살 부활보다 더욱 강화된 형태로 부활한다.
기술표
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- [ 펼치기·접기 ]
● 특수 능력: 루시엘 해방
자신 스스로 번지를 하거나 NPC에 의해 번지를 당할 경우
남은 체력의 25%를 소모하여 변신, 부활하는 효과를 가집니다.
NPC나 자신의 팀원이 아닌, 타인에 의해서 번지를 당하게 되면
별다른 체력과 MP소모 없이 변신하며 부활하게 됩니다.
해방 후에는 일부 기술의 성능이 강화되거나 추가되며,
모든 능력치가 +1만큼 증가합니다.
● 해방 전 기술
Z+C
지면에서 성스러운 기둥을 뽑아 걷어 차 공격하는 기술입니다.
쓰러진 기둥은 넘어진 상대를 공격할 수 있지만, 공격 효과가 감소됩니다.
MP를 2.1 소비합니다.
Z+X
머리를 숙여 전방으로 링을 날리는 기술입니다.
MP를 2.1 소비합니다.
D+XC
전방을 빠르게 내려찍어 주변의 상대를 높게 띄워 올리는 기술입니다.
넘어진 상대를 공격할 수 있지만, 공격 효과가 감소합니다.
MP를 2.1 소비합니다.
V+XC
공중에서 대각선으로 빠르게 하강하며 공격하는 기술입니다.
명중 된 상대는 공중으로 높게 띄워 오르게 됩니다.
MP를 2.1 소비합니다.
Z+XC
사용자 주변으로 순간적으로 강력한 빛의 힘을 방출시키는 기술입니다.
기술 사용 중 슈퍼아머 효과가 발생합니다.
MP를 4.2 소비합니다.
● 해방 후 기술
Z+C
지면에서 성스러운 기둥을 뽑아 걷어 차 공격하는 기술입니다.
기둥이 떨어진 자리에 강력한 빛 줄기가 발생합니다.
강력한 빛 줄기는 넘어진 상대를 공격할 수 있습니다.
MP를 4.2 소비합니다.
Z+X
사용자 주변으로 순간적으로 강력한 빛의 힘을 방출시키는 기술입니다.
기술 사용 중 슈퍼아머 효과가 발생합니다.
MP를 4.2 소비합니다.
D+XC
대시 중 상대방을 추격하여 제압 후 천사의 심판을 내리는 기술입니다.
기술 사용 시 슈퍼아머 효과가 발생합니다.
해당 기술은 방어할 수 없습니다.
MP를 2.1 소비합니다.(기술 명중 시 MP를 2.1 추가 소비합니다.)
V+XC
공중에서 사용자 주변 5방향으로 강력한 빛 줄기를 발생 시키는 기술입니다.
MP를 4.2 소비합니다.
Z+XC
신의 부름을 받아 하늘로 승천 후
주변의 상대를 추격하여 심판을 내리는 기술입니다.
해당 기술은 방어할 수 없습니다.
MP를 6.3 소비합니다.
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2023년 7월 5일 일일 퀘스트 개편으로 추가된 액세서리. 데일리 메달 50개로 구매할 수 있다.
기술표
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- [ 펼치기·접기 ]
● 무기 아이템을 사용할 수 없습니다.
● [검호], [소서리스], [레슬러] 의 캐릭터 특수 기술을 사용할 수 없습니다.
● 8개의 룬 문자를 모두 모으면, 사용자의 모든 능력치가 +2만큼 증가합니다.
C->C->C(->XC)
대검을 가볍게 3회 휘둘러 상대를 베어내는 기술입니다.
1, 2타째 공격 이후 [XC] 버튼을 입력하면, 대검으로 상대를 찌르는 파생 기술을 사용합니다.
파생 기술 명중 시 룬 문자 “A” 가 해방되며, MP를 6.3 회복합니다.
파생 기술 사용 시 MP를 2.1 소비합니다.
X->X(->XC)
대검을 가볍게 휘둘러 상대를 베어내고, 띄워 올리는 기술입니다.
1타째 공격 이후 [XC] 버튼을 입력하면, 대검을 휘둘러 상대를 날려버리는 파생 기술을 사용합니다.
파생 기술 사용 직전에 슈퍼아머 효과가 발생합니다.
파생 기술 명중 시 룬 문자 “T” 가 해방됩니다.
파생 기술 사용 시 MP를 2.1 소비합니다.
D+C
대검을 가볍게 휘둘러 상대를 베어내는 기술입니다.
기술에 명중한 상대를 쓰러트리지 않기 때문에, Hit & Run 플레이에 유용합니다.
D+X
영감을 나타내는 룬이며, 대검을 윗 쪽으로 휘둘러 상대를 띄워 올린 뒤,
반대 방향에서 환영이 출현하여 상대를 내려치는 기술입니다.
기술 명중 시 룬 문자 “M” 이 해방됩니다.
V+C
라이벌 캐릭터의 무릎 공격입니다.
기본 캐릭터 및 퓨전 캐릭터가 사용해도 무릎 공격을 사용합니다.
V+X
공중에서 대검을 수직으로 베어내는 기술입니다.
Z+C
신에게 공물을 바치는 룬이며, 사용자의 HP를 소비하여 대검을 내려쳐 강력한 참격을 발생시키는 기술입니다.
넘어진 상대에게도 공격할 수 있으며, 이 경우에는 타격 효과 및 대미지가 약화됩니다.
기술 명중 시 룬 문자 “G” 가 해방됩니다.
MP를 2.1 소비합니다.
Z+X
대검을 쥐고 방어 태세로 대기하는 기술입니다.
사용자가 방어 태세로 대기하는 상태에서 상대가 공격을 시전하면,
눈에 보이지 않는 속도로 돌진하여 상대를 베어내는 카운터 공격을 사용합니다.
원거리 공격과 방어 불가능 공격에도 반응하여 카운터 공격이 발동됩니다.
카운터 공격 명중 시 룬 문자 “P” 가 해방됩니다.
MP를 3.0 소비합니다.
D+XC
고속으로 돌진하는 동시에 대검을 휘둘러 상대의 배후를 파고드는 기술입니다.
공중에 있는 상대를 조준하여 공격하는 특징이 있습니다.
기술 명중 시 룬 문자 “E” 가 해방됩니다.
MP를 4.2 소비합니다.
V+XC
공중에서 전방에 있는 상대를 조준하여 광선을 내리쏘는 기술입니다.
기술 명중 시 룬 문자 “D” 가 해방됩니다.
MP를 4.2 소비합니다.
커맨드(앞->뒤->앞)+XC
주변에 충격파를 발생시키는 동시에 사용자를 보호하는 특수한 방어막을 생성합니다.
이 방어막이 활성화되어 있는 상태에서는 원거리 공격에 대해 무적 상태가 됩니다.
기술 명중 시 룬 문자 “E” 가 해방됩니다.
MP를 3.0 소비합니다.
Z+XC
대검을 이용한 난무 공격을 펼친 뒤, 광선을 내리쏘아 마무리하는 기술입니다.
해방된 룬 문자의 개수에 따라 성능이 강화됩니다.
- 룬 문자 4개 이상 해방: 기술을 시전하는 순간에 전방에 조준한 상대를 향해 돌진합니다.
- 룬 문자 모두 해방: 기술의 사용 속도가 매우 빨라지며, 준비 동작에 슈퍼아머 효과가 발생합니다. 그리고, 룬의 힘을 모아 상대를 날려버리는 마무리 일격이 추가됩니다.
MP를 4.2 소비합니다. (기술 명중 시 MP를 추가로 2.1 소비합니다.)
Co+C / Co+X
대검을 가볍게 휘둘러 상대를 베어내는 반격 기술입니다.
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기술표
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- [ 펼치기·접기 ]
● 무기 아이템을 사용할 수 없습니다.
● [룬 블레이드] 액세서리의 스페셜 버전으로 액세서리 외형 및 일부 기술에 차이가 있지만,
나머지 기술들은 모두 [룬 블레이드] 액세서리와 동일합니다.
● 2개의 룬 문자를 모으면, 사용자의 모든 능력치가 +1만큼 증가합니다.
● 4개의 룬 문자를 모으면, 사용자의 모든 능력치가 +2만큼 증가합니다.
● 6개의 룬 문자를 모으면, 사용자의 모든 능력치가 +3만큼 증가합니다.
● 8개의 룬 문자를 모두 모으면, 사용자의 모든 능력치가 +4만큼 증가합니다.
Z+C
기존 [룬 블레이드] 액세서리의 Z+C 기술을 사용하지만,
전방으로 공격 범위가 넓어지고, 넘어진 상대에게 공격 시 대미지 반감 보정이 삭제됩니다.
MP를 2.1 소비합니다.
V+XC
기존 [룬 블레이드] 액세서리의 V+XC 기술을 사용하지만,
기술의 공격 범위가 넓어지고, 타격 효과가 상대를 멀리 날려버리는 효과로 강화됩니다.
또한, 레이저가 떨어지는 시간이 단축됩니다.
MP를 4.2 소비합니다.
CMD(앞→뒤→앞)+XC
기존 [룬 블레이드] 액세서리의 CMD(앞→뒤→앞)+XC 기술을 사용하지만,
버프의 지속 시간이 기존에 비해 약 20초만큼 증가합니다.
MP를 3.0 소비합니다.
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룬 블레이드의 강화버전 액세서리이다. 특정한 공격을 명중시마다 각 기술에 대응하는 룬 문자가 하나씩 모이게 되고 8개의 룬문자를 모두 모으게되면 액세서리가 더욱 강력해진다. 허나 실전에서 8개의 룬을 모으는 것이 사실 많이 힘들다. 단 다 모으고 나면 평타의 데미지가 아주 강력해진다. 원거리공격에 내성이 생기는 버프효과 지속시간이 더욱 길어져 난전에서도 유용한 편.
기술표
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- [ 펼치기·접기 ]
● 무기 아이템을 사용할 수 없습니다.
● [검호], [소서리스], [레슬러] 의 캐릭터 특수 기술을 사용할 수 없습니다.
V+V(모으기)
날개를 펼쳐 공중으로 살짝 도약하는 기술입니다.
도약 중에 [V] 버튼을 유지하여 낙하 타이밍을 늦출 수 있습니다.
MP를 1.0 소비합니다.
C->C->C->C(->XC)
도검을 가볍게 휘둘러 상대를 4연속 베어내는 기술입니다.
기술 사용 중에 [XC] 버튼을 입력하면, 우측 방향으로 이동하는 파생 기술을 사용합니다.
파생 기술 사용 시 MP를 2.1 소비합니다.
X->X(->XC)
도검을 가볍게 휘둘러 상대를 베어낸 뒤, 띄워 올리는 기술입니다.
기술 사용 중에 [XC] 버튼을 입력하면, 우측 방향으로 이동하는 파생 기술을 사용합니다.
파생 기술 사용 시 MP를 2.1 소비합니다.
D+C
도검을 가볍게 휘둘러 상대를 2연속 베어내는 기술입니다.
D+X
도검을 가볍게 휘둘러 상대를 띄워 올리는 기술입니다.
V+C
기본 캐릭터의 엘보 기술입니다.
라이벌 캐릭터가 사용해도 엘보 기술을 사용합니다.
V+X
공중에서 회전 베기로 상대를 베어내는 기술입니다.
기술을 명중해도 상대를 쓰러트리지 않기 때문에, Hit & Run 플레이에 유용합니다.
Z+C
날개를 펼쳐 전방으로 3연속 돌진하는 부유 성능이 있는 기술입니다.
(지형이 변화해도 일정시간 동안 고도를 그대로 유지합니다.)
돌진 중에는 방향키를 입력하여 방향을 전환할 수 있으며, 아래의 파생 기술을 사용할 수 있습니다.
MP를 2.1+1.0+1.0 소비합니다.
- C 파생 기술: D+C 기술로 파생합니다.
- X 파생 기술: D+X 기술로 파생합니다.
- XC 파생 기술: D+XC 기술로 파생합니다.
- V 파생 기술: 기술을 중단합니다.
Z+X
공중으로 도약하며 도검을 휘둘러 상대를 띄워 올립니다.
기술 사용 후 착지 이전에 공중 기술을 사용할 수 있습니다.
기술 사용 시 공중 공격에 대한 무적 상태가 됩니다.
MP를 3.0 소비합니다.
D+XC
고속으로 돌진하여 상대를 제압시키고 수 차례에 걸쳐 분신들이 공격한 뒤,
마지막 공격으로 상대를 역 방향으로 날려버리는 기술입니다.
MP를 4.2 소비합니다. (기술 명중 시 MP를 추가로 2.1 소비합니다.
V+XC
공중으로 이동하며 나비 분신을 아래 방향으로 흩뿌리는 기술입니다.
흩뿌려지는 나비 분신이 남아있는 시간이 길기 때문에, 상대가 방어하기 번거롭습니다.
해당 기술은 공중에서 연속으로 최대 2회까지 사용할 수 있습니다.
MP를 4.2 소비합니다. (공중에서 2회 연속 사용 시, 2번째 V+XC 는 MP를 2.1 소비합니다.)
Z+XC
도검을 휘두른 뒤, 공중으로 도약하여 난무 공격을 펼치는 기술입니다.
기술의 대미지는 낮은 편이지만, 발생이 빠르기 때문에 각종 띄우기 기술 이후 연계할 수 있습니다.
MP를 4.2 소비합니다.
Co+C / Co+X
도검을 휘둘러 상대를 베어내는 반격 기술입니다.
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상자 액세서리로, 나비 장식이 된 화려한 중국풍의 검이다. 스텝기도 있고 마나 소모도 작아 좋지만 쓰기가 까다로워 묻혀버린 비운의 액세서리.
기술표
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- [ 펼치기·접기 ]
V+V(모으기)
날개를 펼쳐 공중으로 살짝 도약하는 기술입니다.
도약 중에 [V] 버튼을 유지하여 낙하 타이밍을 늦출 수 있습니다.
MP를 1.0 소비합니다.
X→X→X→X(→XC)
부채를 가볍게 휘둘러 상대를 4연속 베어내는 공격입니다.
1타 공격은 사용자 후방에도 공격 판정이 발생합니다.
각 공격 타이밍에서 임의로 방향을 조정하여 공격할 수 있습니다.
공격 중에 [XC] 버튼을 입력하면, 후방으로 이동하는 파생 기술을 사용할 수 있으며,
방향키를 입력하여 이동 방향을 임의로 조정할 수 있습니다.
파생 기술 사용 후 곧바로 X 기술로 공격할 수 있습니다.
파생 기술 사용 시 MP를 2.1 소비합니다.
D+X
뛰어 올라 수직으로 회전하며 부채로 공격하는 기술입니다.
돌진력과 관통 성능이 있어 기습이나 회피 용도로 사용할 수 있습니다.
V+X
공중에서 부채를 이용해 회전하면서 착지하는 기술입니다.
비스듬하게 스친 듯한 느낌으로 명중하면 상대가 방어하기 번거롭습니다.
Z+C
두 자루의 부채를 전방으로 투척하는 기술입니다.
투척한 부채는 다시 사용자에게 되돌아오며, 이때도 공격 판정이 발생합니다.
MP를 3.0 소비합니다.
Z+X(→XC)
부채를 가볍게 휘두르는 기술입니다.
기술이 상대에게 명중하면 사용자가 나비로 잠시 동안 변신하여 사방으로 분신을 출현시킵니다.
기술 사용 시 방향키를 입력하여 본체가 출현하는 위치를 임의로 조정할 수 있습니다.
기술 명중 후 [XC] 버튼을 입력하면, Z+XC 기술로 파생할 수 있습니다.
MP를 2.1 소비합니다. (파생 기술 사용 시 MP를 추가로 4.2 소비합니다.)
D+XC
부채를 이용해 회전하면서 돌풍과 함께 날아오르는 기술입니다.
공중으로 날아오르기 때문에 상대의 공격을 회피하는 용도로 사용할 수 있습니다.
MP를 4.2 소비합니다.
V+XC
공중으로 이동하며 나비 분신을 아래 방향으로 흩뿌리는 기술입니다.
흩뿌려지는 나비 분신이 남아있는 시간이 길기 때문에, 상대가 방어하기 번거롭습니다.
해당 기술은 공중에서 연속으로 최대 2회까지 사용할 수 있습니다.
MP를 3.0 소비합니다.
Z+XC
사용자가 나비로 잠시 동안 변신하여 사방으로 분신을 출현시킨 뒤,
일정 시간차를 두고 돌풍을 일으켜 날아올라 난무 공격을 펼치는 기술입니다.
기술 사용 시 방향키를 입력하여 본체 출현 위치 및 공격 방향을 임의로 조정할 수 있습니다.
MP를 4.2 소비합니다. (기술 명중 시 MP를 추가로 2.1 소비합니다.)
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패치 내역
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- [ 펼치기·접기 ]
- D+X 기술의 타격 효과를 강화시켰습니다. - V+X 기술의 경직을 빠르게 조정했습니다. - Z+XC 기술의 발생을 빠르게 조정했습니다.
2022년 6월 15일 업데이트 내역
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기술표
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- [ 펼치기·접기 ]
● 무기 아이템을 사용할 수 없습니다.
V+V
나비 날개를 펴서 약간 공중에 뜨는 기술입니다.
이동은 불가능하지만 낙하 타이밍을 늦출 수 있습니다.
공중 도중에 V키를 눌러 낙하할 수 있습니다.
MP를 1.0 소비합니다.
C->C->C->C(1타 후 XC 파생 가능)
발생이 빠른 4단 기술입니다.
1번째 공격 이후부터 아무 타이밍에서 파생할 수 있고, XC 파생 기술은 아무 방향으로 공격할 수 있습니다.
XC 파생 기술은 후진한 후 빠르게 찔러 밀쳐버리는 기술입니다.
방향을 조종하면 뒤로 돌 때 상대를 무시하고 적의 배후로 갈 수도 있습니다.
XC 파생 시 MP를 2.1 소비합니다.
X->X->X (1타 후 XC 파생 가능)
3단 공격 기술입니다.
1번째 공격 이후부터 아무 타이밍에서 파생할 수 있고, XC 파생 기술들은 아무 방향으로 공격할 수 있습니다.
3번째 공격 이후의 XC 파생 기술은 V기술로 추격할 수 있습니다.
XC 파생 시 MP를 2.1 소비합니다.
Co+C or Co+X
일반적인 카운터 기술입니다.
D+C
앞뒤로 볼을 내밀어 경직시키는 기술입니다.
후방에도 판정이 있습니다.
서서 C파생과 같은 후진 찌르기 같은 파생이 가능합니다.
XC 파생 시 MP를 2.1 소비합니다.
D+X-> (XC)
회전하고 던진 후 바닥을 찍고 띄워버리는 2단 기술입니다.
경직은 길지만 XC파생으로 뛰어올라 추격할 수 있습니다.
첫 번째 공격은 다운 내성을 무시합니다.
XC 파생 시 MP를 2.1 소비합니다.
V+C
무릎차기 공격입니다.
V+X
공중에서 한 쌍의 추로 내려찍고 상대를 바닥에 찍고 띄워 버리는 기술입니다.
지상에서 명중 시에만 뛰어 오르고 공중에서 복귀합니다.
공중 히트 시 히트 효과가 던지는 효과로 변경됩니다.
Z+C
후진한 후 빠르게 찔러 밀쳐버리는 기술입니다.
방향을 조종하면 뒤로 돌 때 상대를 무시하고 적의 배후로 갈 수도 있습니다.
MP를 2.1 소비합니다.
Z+X
제자리에서 회전하고 공격하는 범위 기술입니다.
2HIT하고 나비가 폭발하여 공격합니다.
MP를 3.0 소비합니다.
D+XC
양 손으로 상대를 공격한 후 상대를 걷어차 회전하면서 뛰어 올라 적을 공격하는 기술입니다.
착지 후 추격할 수 있지만 V+V를 사용하여 V 계열 기술로도 추격할 수 있습니다.
MP를 3.0 소비합니다.
V+XC(모으기 가능)
공중에서 급강화 공격 판정이 있는 나비를 남기면서 땅에 착지하는 기술입니다.
공중 히트 시에도 세운 상태로 공격을 계속 할 수 있습니다.
MP를 3.0 소비합니다.
Z+XC
추로 두드려 난무하는 기술입니다.
공중에서 날개가 생겨나 땅으로 돌진한 후 공중에서 복귀합니다.
기술 발동 시 슈퍼아머가 발생합니다.
MP를 4.2 소비합니다. (히트 시 MP를 2.1 추가 소비합니다.)
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기술표
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- [ 펼치기·접기 ]
Z+C
바운드하는 8분음표를 발사하는 기술입니다.
근거리에서 명중했을 때는 대미지가 약간 증가하며, 타격 효과가 변화합니다.
일정 거리 떨어져 있는 공중 상대에게 명중했을 때는 대미지가 반감됩니다.
MP를 4.2 소비합니다.
Z+X
4분음표를 상공에서 낙하시키는 기술입니다.
음표가 닿으면 추격 기술로 파생됩니다.
넘어진 상대를 공격할 수 있지만, 대미지가 반감되며, 파생 기술이 발생하지 않습니다.
MP를 2.1 소비합니다. (기술 명중 시 MP를 추가로 1.0 소비합니다.)
D+XC
달리면서 음표를 뿌리는 기술입니다.
돌진 중 정면에도 공격 판정이 있어 직격으로 맞추면 폭발이 연속으로 Hit 합니다.
MP를 4.2 소비합니다.
V+XC
트럼펫을 사선 아래 방향으로 불어 4분쉼표를 날립니다.
기술에 명중한 상대는 잠시 동안 정지 상태가 되며,
약간의 대미지를 입게 됩니다.
저공에서 사용하면 [Z+XC] 기술로도 추격이 가능합니다.
[V+XC] 기술을 연속으로 명중시킬 수는 없습니다.
MP를 3.0 소비합니다.
Z+XC
트럼펫으로 타격 후 쓰러진 상대에게 오선보가 출현하여 상공에서 음표가 쏟아져 내리는 난무 기술입니다.
떨어지는 음표에 리듬을 맞춰 버튼을 모두 올바르게 입력하면 'Great!!' 이펙트와 함께
마지막 폭발 위력과 타격 효과가 강화됩니다.
낙하되는 연주 패턴은 8가지가 있으며, 랜덤으로 출력됩니다.
MP를 4.2 소비합니다. (기술 명중 시 MP를 추가로 2.1 소비합니다.)
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기술표
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- [ 펼치기·접기 ]
● [리드믹 노트] 액세서리의 스페셜 버전으로 액세서리 외형 및 일부 기술에 차이가 있지만,
나머지 기술들은 모두 [리드믹 노트] 액세서리와 동일합니다.
Z+C
기존 [리드믹 노트] 액세서리의 Z+C 기술을 사용하지만,
사용 시 발생하는 MP 소비량이 기존에 비해 -2.1 감소됩니다.
MP를 2.1 소비합니다.
Z+C(모으기)
트럼펫을 연주하여 전방으로 7색의 음표를 줄지어 발사시키는 기술입니다.
MP를 4.2 소비합니다.
D+XC
기존 [리드믹 노트] 액세서리의 D+XC 기술을 사용하지만,
기술 사용 중 연주하며 이동할 수 있도록 변경됩니다.
MP를 4.2 소비합니다.
V+XC
기존 [리드믹 노트] 액세서리의 V+XC 기술을 사용하지만,
사용 시 발생하는 MP 소비량이 기존에 비해 -0.9 감소됩니다.
MP를 2.1 소비합니다.
V+XC(모으기)
공중에서 트럼펫을 연주하여 주변에 있는 상대를 잠시 동안 움직일 수 없게 만듭니다.
MP를 4.2 소비합니다.
Z+XC
기존 [리드믹 노트] 액세서리의 Z+XC 기술을 사용하지만,
기술 사용 시 슈퍼아머 효과가 발생합니다.
기술 명중 시 상공에서 떨어지는 음표 콤보에 따라 판정이 아래와 같이 강화됩니다.
MP를 4.2 소비합니다. (기술 명중 시 MP를 추가로 2.1 소비합니다.)
(7콤보 이하)
마지막에 COOL!! 문구가 출력되고, 상대를 높게 띄어올려 넘어트립니다.
(8콤보~14콤보)
마지막에 GOOD!! 문구가 출력되고, 상대를 높게 띄어올려 넘어트립니다.
COOL!! 문구 시 발생하는 판정보다 위력이 강화됩니다.
(15콤보)
마지막에 GREAT!! 문구가 출력되고, 상대를 전방으로 멀리 날려버립니다.
GOOD!! 문구 시 발생하는 판정보다 위력과 공격 판정이 강화됩니다.
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기술표
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- [ 펼치기·접기 ]
Z+C
리모콘 조작으로 자신이 맵 위에 설치했던 폭탄을 전부 폭파시킵니다.
단, 자신이 맵 위에 설치한 폭탄이 하나도 없을 경우에는
허리에 장착한 폭탄이 폭발해버려 큰 데미지를 입게 됩니다.
자폭 시에는 타인을 끌어들일 수 없습니다.
MP를 소비하지 않습니다.
Z+X
눈 앞에 폭탄을 설치합니다.
이후에 사용자는 Z 를 입력하여 설치된 폭탄을 확인할 수 있습니다.
MP를 소비하는 기술입니다.(안드로이드는 다른 캐릭터에 비해 MP를 더 소비합니다.)
V+XC (화염)
대각선 아래 방향으로 폭탄을 꺼내 던집니다.
폭탄은 천천히 천천히 떨어지며 착탄되면 불기둥이 상하좌우로 발생합니다.
떨어지고 있는 도중에도 공격 판정이 있어 2 HIT 를 노릴 수도 있습니다.
MP를 소비하는 기술입니다.(안드로이드는 다른 캐릭터에 비해 MP를 더 소비합니다.)
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리모콘이 달린 폭탄을 설치하여 원하는 타이밍에 폭발시킬 수 있다고는 하는데 폭탄이 피격당하면 터지는 지라 자신이 폭파시키는 경우는 별로 없다.
[4] 대미지가 없는 공격에는 피격 당해도 터지지 않는다.
폭탄을 밟고 설 수 있어서 안드로이드에다 끼고 계단을 만들며 노는 계단놀이는 이 액세서리가 나올 때부터 있었던 유서깊은 놀이이다.
이 액세서리의 천적으로는
군인의 암 시리즈나
안드로이드의
배틀 프로펠러처럼 손쉽게 원거리 공격으로 폭탄을 제거할 수 있는 액세서리들이다. 어느 리모콘 폭탄 유저가 말하기를 애지중지 키운 자식 잃는 것 같은 기분이라고.
몇몇 스타일은 근접한 상대를 날려버리는 꼼수가 있다.
용병은 설치해둔 폭탄을 C로 한대 톡 치고 재빨리 Z+XC 캔슬
[5]을 사용해 폭발에 말려들지 않을 수 있으며,
가드리스는 C로 톡 친 후에 바로 Z|XC나 스페이스 바를 눌러 변신하면 폭발에 말려들지 않는다.
기술표
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- [ 펼치기·접기 ]
Z+C (냉기)
내려 놓은 선물함을 폭발시킵니다.
선물함을 내려 놓지 않은 상태에서 Z+C를 사용하게 되면 리모콘 오작동으로 자신이 폭발합니다.
Z+X
바닥에 선물함을 내려 놓습니다.
Z+C로 선물함을 폭발 시킬 수 있으며, 다른 플레이어가 건드려도 폭발합니다.
설치 후 폭발까지 시간 제한은 없습니다.
V+XC (냉기)
전방에 선물함을 던져 폭발시키는 무서운 기술.
최대 3회까지 타격이 가능하며 방어는 가능하지만, 방어해도 상당한 데미지를 입습니다.
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리모콘 폭탄의 크리스마스 한정판.
리모콘 폭탄과 전체적인 성능과 기술이 같다. 단 폭탄이 터지면 날아가는 것이 아닌 얼음이 되어 미끄러진다. 기존 리모콘 폭탄은 SPD가 떨어지지만 산타 리모콘 폭탄은 DEF이 떨어진다. 그리고 기존 리모콘 폭탄은 착용 캐릭터 제한이 꽤 심한데 비해 산타 리모콘 폭탄은 전 캐릭터가 착용할 수 있다.
기술표
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- [ 펼치기·접기 ]
● 무기 아이템을 사용할 수 없습니다.
C→C→C→C→C
총 6 HIT 의 연속 5단 공격.
톤파의 빔 블레이드를 이용해 빠르게 상대를 베어내는 기술로, 종합적인 데미지가 높습니다.
베기 속성 강화의 영향을 받습니다.
X→X →X
톤파의 빔 블레이드로 적을 베어내는 3연속 공격.
1타째의 범위가 넓고, 3타째에는 상대를 높이 띄우기 때문에 쉽게 추가타를 넣을 수 있습니다.
베기 속성 강화의 영향을 받습니다.
D+C
발생이 빠르고 범위가 넓은 횡 베기 공격.
다운 시키지 않는 공격으로, 명중 시 연속 공격으로 상대를 압박해 나가기 좋은 기술 입니다.
공격 범위가 넓어 상대를 견제하기에도 좋습니다.
베기 속성 강화의 영향을 받습니다.
D+X
돌진과 공격 거리가 긴 띄우기 공격.
명중 시 상대를 높이 띄우므로 쉽게 추가타를 넣을 수 있습니다.
베기 속성 강화의 영향을 받습니다.
Z+C, Z+X
Z+C 는 오른쪽으로, Z+X 는 왼쪽 방향으로 빠르게 스탭을 밟아 이동하는 기술.
기술 사용 직후 무적 시간이 있어 상대의 공격을 회피하기 좋습니다.
베기 속성 강화의 영향을 받습니다.
MP를 소비하지 않습니다.
커맨드(앞→뒤→앞)+C→C
Z+C→C→C, Z+X→C→C,
톤파의 빔 블레이드를 넓게 휘둘러 광 범위를 공격하는 2연속 기술.
기술이 명중 했을 때 상대와의 거리가 가깝다면, 경직된 상대에게 추가 공격이 가능합니다.
베기 속성 강화의 영향을 받습니다.
MP를 1타, 2타 각각 2.1 소비합니다.
커맨드(앞→뒤→앞)+X
Z+C→X, Z+X→X
톤파를 들어 반격 자세를 취합니다.
이때, 상대의 공격을 받으면 톤파를 3회 연속 휘둘러 상대를 공중으로 띄우는 카운터 기술이 사용됩니다.
베기 속성 강화의 영향을 받습니다.
MP를 2.1 소비합니다. (반격에 성공하면 MP를 추가로 2.1 소비합니다.)
커맨드(앞→뒤→앞)+XC
Z+C→XC, Z+X→XC,
제 자리에서 고속으로 회전하며 주변을 공격하는 범위 기술.
발생은 느린편이지만, 360도 전 방향을 공격하고 명중된 상대는 높이 떠올라 추가타를 넣을 수 있습니다.
베기 속성 강화의 영향을 받습니다.
MP를 4.2 소비합니다.
D+XC
빠른 속도로 돌진하며 적을 베어내는 대시 필살기.
명중 시 상대가 높게 떠오르기 때문에 Z+XC 등 다양한 기술로 연계가 가능합니다.
발생이 빠르고 돌진 거리가 긴 것이 장점.
공중의 상대에게는 명중시킬 수 없습니다.
베기 속성 강화의 영향을 받습니다.
MP를 4.2 소비합니다.
Z+XC
명중 시 상대를 빠르게 베어내는 난무 기술로 파생되는 필살기.
발생이 빠르고, 마지막 횡 베기 공격은 범위 기술이기 때문에 주위의 상대도 함께 데미지를 입습니다.
D+XC 후 Z+XC 로 이어지는 콤보가 매력적.
베기 속성 강화의 영향을 받습니다.
MP를 4.2 소비합니다. (명중 시 MP를 추가로 2.1 소비합니다.)
Co+X, Co+C
X 2타째와 같이 적을 빠르게 횡으로 베어내는 반격 기술입니다.
베기 속성 강화의 영향을 받습니다.
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뒤쪽에 타격봉 대신 빔 블레이드가 장착된 톤파. 이전의 톤파 액세서리들과 마찬가지로 착용 시 아이템을 사용할 수 없고, 이전 것들과 달리 이건 퓨전 캐릭터의 Co+XC 또한 쓸 수가 없다. 다만 공속이 상당히 빠른 편에 속하며 공격 횟수도 많은 편. 대미지도 괜찮은 편이다.
추천 캐릭터는
파계승. 악세 자체에 V+XC 기술이 없기 때문에 파계승의 V+XC로 대체가능하고 이 조합으로 (D+XC→)V+XC→Z+XC라는 강력한 콤보가 있기때문. 또, D+C의 공격이 대미지도 아픈데 각이나 범위도 넓은데다 생각보다 엄청 빠른 속도로 공격하므로 째플도 가능하다. 점프 공격을 파계승 V+XC로 봉쇄하고 지상에서는 빠르고 대미지 높은 약공격이 가능하다.
시크릿가드 역시 V+XC을 통한 대공 견제가 가능하며 파계승보다 방어력도 높고, 특수능력으로 더 넓은 시야가 확보되기 때문에 조합으로 괜찮다. 사기적인 점발이 살아있어서 더더욱.
2022년 9월 14일 업데이트된 액세서리이며 망자의 미궁을 하루 1회 클리어하면 얻을 수 있는 축복의 보물상자, 영혼의 보물상자, 망자의 보물상자에서 극도로 낮은 확률로 획득할 수 있다.
에픽 액세서리인 리버스 아케인의 열화판으로 엄연히 준에픽 등급이기에 세력전에서 사용할 수 있다. 기존 리버스 아케인과 다른 점은 다음과 같다.
- 2차 각성 지속 시간 35초
- 2차 각성 이후 D+XC 추적 기능 및 가드 불가 없음
- 2차 각성 이후 Z+X, Z+XC 시전 시 비전 광석이 생성되지 않음
기술표
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- [ 펼치기·접기 ]
● 특수 능력: 가드 에너지
- 방어 자세의 지속 시간이 기존보다 약 2배만큼 증가합니다.
- 상대의 공격을 방어하면 방어 데미지를 [가드 에너지]로 변환하여 방패에 충전시키며,
충전한 에너지로 기술의 성능을 강화시킬 수 있습니다.
가드 에너지가 충전된 양에 비례하여 방패 부분에 특수한 이펙트가 발생합니다.
Z+C
사용자 전방에 충격파를 발생시켜 상대를 띄워 올리는 기술입니다.
기술의 발생 속도가 비교적 빠른 편이며, 측면에도 공격 판정이 넓어 명중시키기 쉽습니다.
[C] 버튼 모으기를 유지하여 기술의 발동 타이밍을 조절할 수 있으며,
모으기를 끝까지 유지하면, 기술의 범위가 약간 넓어집니다.
충전해둔 [가드 에너지]의 양에 비례하여 기술의 데미지가 증가하며,
기술 사용 후 충전해둔 [가드 에너지]의 25%를 소모합니다.
MP를 3.0 소비합니다. (안드로이드는 MP를 12.0 소비합니다.)
Z+X
사용자 전방으로 긴 범위의 에너지 광선을 발사하는 기술입니다.
기술의 발생 속도가 다소 느린 편이지만, 상대가 방어할 수 없다는 특징이 있습니다.
[X] 버튼 모으기를 유지하면 에너지 광선을 발사하지 않는 페인트 기술이 사용됩니다.
충전해둔 [가드 에너지]의 양에 비례하여 기술의 데미지가 증가하며,
기술 사용 후 충전해둔 [가드 에너지]의 25%를 소모합니다.
MP를 3.0 소비합니다. (안드로이드는 MP를 12.0 소비합니다.)
D+XC
전방의 상대를 자동으로 조준하여 돌진한 다음, 방패를 3회 휘둘러 공격하는 기술입니다.
상대가 1타째를 방어하더라도 이후의 모든 공격이 자동으로 발동되는 특징을 가지고 있습니다.
마지막 타격이 명중하면 상대를 크게 경직시키기 때문에 계속해서 압박을 가할 수 있습니다.
기술의 돌진 거리가 멀어 기술을 잘못 사용해 맵에서 떨어지는 것에 유의해야 합니다.
해당 기술은 [가드 에너지] 충전에 영향을 받지 않습니다.
MP를 4.2 소비합니다. (안드로이드는 MP를 12.0 소비합니다.)
V+XC
공중에서 비스듬하게 지면을 향해 에너지 탄을 발사하는 기술입니다.
에너지 탄을 맞고 공중으로 떠오른 상대에게 추가 공격을 가할 수 있습니다.
공중에서 연속해서 최대 2회까지 사용할 수 있습니다.
충전해둔 [가드 에너지]의 양에 비례하여 기술의 데미지가 증가하며,
기술 사용 후 충전해둔 [가드 에너지]의 25%를 소모합니다.
MP를 3.0 소비합니다. (안드로이드는 MP를 12.0 소비합니다.)
Co+XC
방패를 휘둘러 상대를 경직시키는 기술입니다.
명중한 상대를 크게 경직시키기 때문에 추가 공격을 가할 수 있습니다.
해당 기술은 [가드 에너지] 충전에 영향을 받지 않습니다.
MP를 3.0 소비합니다. (안드로이드는 MP를 12.0 소비합니다.)
커맨드(앞->뒤->앞)+XC
[가드 에너지]를 사용자의 HP로 전환하는 보조 기술입니다.
기술을 사용한 다음 약 15초 동안 사용자의 DEF 능력치가 1만큼 증가합니다.
효과가 유지되는 시간 동안 연속해서 기술을 사용할 수 없습니다.
기술 사용 시 충전한 [가드 에너지]를 모두 소비하게 됩니다.
MP를 3.0 소비합니다. (안드로이드는 MP를 12.6 소비합니다.)
Z+XC
사용자 주변에 거대한 에너지를 방출시켜 공격하는 기술입니다.
팔을 위로 올리는 순간부터 슈퍼아머 상태가 됩니다.
충전해둔 [가드 에너지]의 양에 비례하여 기술의 공격 범위가 넓어지며,
기술 사용 후 충전해둔 [가드 에너지]의 25%를 소모합니다.
* 안드로이드는 해당 기술을 사용할 수 없습니다.
MP를 6.3 소비합니다.
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오른팔에는 방패를, 왼팔에는 에너지를 발사하는 건틀릿을 착용하고 있는 모습이며, 액세서리 착용 시 방어 지속시간이 2배가 된다. 그리고 방어할 때마다
가드 에너지라는 것이 충전되며, 이것이 모여있는 양에 따라 기술의 위력이 달라진다. 충전된 가드 에너지의 양에 따라 액세서리의 빛이 점점 크고 밝아지며, 가득 차면 추가 이펙트가 발생한다.
테스트 서버에 처음 나왔을 때는 현재 파라미터에서 STR+1이 붙어 있었고,
가드 에너지가 최대치로 차 있을 때는 가드 데미지 무효화라는 미친 성능이 붙어 있었으나 밸런스 문제로 당연히 없어졌다.
과거 전성기 시절 래더 매치나 서바이벌에서 꼭 한 번씩은 볼 수 있었던 액세서리. 이유는 당시 어이없는 성능을 자랑하는 D+XC와 V+XC 때문이다.
D+XC의 무서운 점은 거의 완벽한 유도, 상당한 대미지, 미친듯한 전진거리에 있다. V+XC는 보이는 것보다 범위가 상당히 넓어 피하기 까다롭다. 그리고 Co+XC은 쓰기도 쉬운 주제에 넘어뜨리지도 않고 데미지마저
씹사기라서 D+XC만 써대면서 Co+XC만 난사하면 상대하기 매우 힘들었다.
결국 그 사기성 때문에 2014년 5월에 너프당했다. 전체적인 성능은 하향 당한 후에도 나쁜 편은 아니다. 하향 전 성능이 너무 사기였을 뿐 현재가 바람직하다고 보는 편. V+XC가 아직도 건재한데다, 기본기가 좋은 캐릭터와 조합하면 높은 시너지를 자랑한다.
기술표
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- [ 펼치기·접기 ]
● [리버스 필드] 액세서리의 스페셜 버전으로 액세서리 외형 및 일부 기술에 차이가 있지만, 나머지 기술들은 모두 [리버스 필드] 액세서리와 동일합니다.
● 상대의 공격을 방어하면 가드 에너지 충전량이 기존 [리버스 필드]에 비해 2배만큼 증가합니다.
D+XC
기존 [리버스 필드] 액세서리의 D+XC 기술을 사용하지만, 기술의 발생이 기존에 비해 빨라집니다.
MP를 4.2 소비합니다.
Z+XC
기존 [리버스 필드] 액세서리의 Z+XC 기술을 사용하지만, 상대가 방어할 수 없습니다.
MP를 6.3 소비합니다.
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기술표
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- [ 펼치기·접기 ]
● 특수 능력: 리벤지
자신을 공격한 상대의 머리 위에는 [리벤지 마크]가 부착 되며,
특정 공격의 대미지와 타격 효과가 강화됩니다.
리벤지 마크에 제한시간은 15초이며, 복수를 성공하거나 특정 기술을 사용하면 사라집니다.
(리벤지 효과가 적용되는 기술의 경우 (R) 마크로 표시하였습니다.)
X(R)→X→X(→XC)
낫을 휘둘러 상대를 띄워 올리는 막강한 3단 공격입니다.
발생이 느린 대신 공격 범위가 넓습니다.
리벤지 효과는 1타째만 해당됩니다.
리벤지 마크가 부착되어 있는 상대에게는 타격 효과가 변화하고, 경직이 짧아져 2타째가 확정됩니다.
C 공격으로도 추가타를 할 수 있게 됩니다.
3타째 공격 이후, [XC] 버튼을 입력하여 띄워 올린 상대에게 파생 기술을 사용할 수 있습니다.
대미지는 약하지만, 착지 이전에 공중 기술이 사용 가능하므로 추가 타격이 가능하고 사용자의 빈틈이 적어지게 됩니다.
파생 기술 사용 시 MP를 2.1 소비합니다.
Z+C(R)
낫을 휘둘러 참격을 날리는 기술입니다.
발생이 느리고 평범한 공격 기술이지만, 리벤지 마크가 부착되어 있을 경우 공격이 빨라집니다.
또한, 리벤지 마크가 부착되어 있는 상대 모두에게 참격의 궤도가 경유하게 됩니다.
복수의 대상이 2인일 경우에는 대미지가 약간 증가하고, 3인 이상일 경우에는 대폭 증가합니다.
(대미지 증가 효과는 최대 3인까지만 적용됩니다.)
MP를 3.0 소비합니다. (리벤지 마크가 부착되어 있는 상대에게 사용할 경우, MP를 추가로 1.2 소비합니다.)
Z+X(R)
낫으로 지면을 내리쳐 피의 충격파로 상대를 띄워 올리는 기술입니다.
리벤지 마크가 부착되어 있는 모든 대상의 발 밑에서 충격파가 발생합니다.
복수의 대상이 2인일 경우에는 대미지가 약간 증가하고, 3인 이상일 경우에는 대폭 증가합니다.
(대미지 증가 효과는 최대 3인까지만 적용됩니다.)
MP를 3.0 소비합니다. (리벤지 마크가 부착되어 있는 상대에게 사용할 경우, MP를 추가로 1.2 소비합니다.)
D+XC(모으기)
힘을 모아 하이퍼 아머 상태가 되고, 그 후 지면을 때려 피의 충격파로 주변을 띄우는 기술입니다.
경직이 길고 추가 타격은 불가능하지만 복수가 끝날 때까지 하이퍼 아머가 지속됩니다.
모으기를 유지하여 충격파 발동의 타이밍을 조정할 수 있습니다.
난전 상황에서 몸을 내밀어 리벤지 마크 부착을 유도하기 좋습니다.
MP를 3.0 소비합니다.
B+XC
백스텝을 한 후 충격파로 전방을 공격하는 기술입니다.
기술이 명중할 경우, 상대에게 리벤지 마크를 부착할 수 있습니다.
대미지는 약하지만 전체적으로 동작이 빠르기 때문에 전투에 유용하게 사용할 수 있습니다.
MP를 4.2 소비합니다.
V+XC(R)
공중에서 2회 수평 회전베기를 하면서 낙하하는 범위형 기술입니다.
리벤지 마크가 부착되어 있는 상대에게는 사방으로 날려버리는 강력한 타격 효과가 발생하며, 대미지가 약간 증가합니다.
모든 방향에서 방어가 가능한 기술입니다.
MP를 6.3 소비합니다.
Z+XC
돌진하며 손날을 휘둘러 상대를 공격합니다.
기술이 명중할 경우, 상대에게 리벤지 마크를 부착할 수 있습니다.
MP를 6.3 소비합니다.
리벤지 마크 부착 상태 대상이 있을 때, 커맨드(앞→뒤→앞)+XC(모으기) 손끝에서 체인이 복수의 대상으로 날아가 회피불능의 대미지를 1초마다 주는 기술입니다.
모으기를 유지하면 최대 6회의 대미지를 줄 수 있습니다.
리벤지 마크가 부착되어 있는 복수의 대상이 2인일 경우에는 대미지가 약간 증가하고, 3인 이상일 경우에는 대폭 증가합니다. (대미지 증가 효과는 최대 3인까지만 적용됩니다.)
최종 6회까지 대미지를 주게 되면 대상을 폭발시켜 띄우며, 1인당 MP를 3.0 회복합니다.
[XC] 버튼을 중간에 떼면 기술을 중단할 수 있으며, 한 번 중단되면 리벤지 마크가 해제됩니다.
연습모드 및 BOT 매치 이외의 NPC에게는 적용되지 않습니다.
MP를 4.2 소비합니다.
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리벤지 크로우의 스페셜 버전으로 보급상자 경품으로 등장했었다. 검을 메고 있는 리벤지 크로우와는 달리 진홍색의 거대한 낫을 메고 있는 것이 차이점. 참고로 15세 미만 클라이언트에 대응되어 파란색으로 변경이 되는 리벤지 크로우와 다르게 이건 변화가 없다.
외형 뿐만 아니라 성능도 강화되었다. 특히 특수 능력인 리벤지는
무려 여러 명에게 리벤지 마크를 달 수 있는데다가 지속시간도 없다! 그 외의 하이퍼아머로 모으기가 가능한 D+XC나 전방향 공격을 하는 V+XC 등 상당히 강력한 기술로 변화되었다.
기술표
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- [ 펼치기·접기 ]
● [리벤지 사이드] 액세서리의 스페셜 버전으로 액세서리 외형 및 일부 기술에 차이가 있지만, 나머지 기술들은 모두 [리벤지 사이드] 액세서리와 동일합니다.
● 기존 [리벤지 사이드] 액세서리의 특수효과를 사용하지만, 특수 효과 히트가 1회에서 2회 사용 시 사라지도록 강화됩니다.
Z+X
기존 [리벤지 사이드] 액세서리의 Z+X 기술을 사용하지만, 공격의 발생이 기존에 비해 빨라집니다.
MP를 3.0 소비합니다.
D+XC
기존 [리벤지 사이드] 액세서리의 D+XC 기술을 사용하지만, 특수효과 적용된 상대에게 명중 시 멀리 날리도록 판정이 강화됩니다.
MP를 3.0 소비합니다.
V+XC
기존 [리벤지 사이드] 액세서리의 V+XC 기술을 사용하지만, 기술의 MP 소비량이 기존에 비해 -2.1만큼 감소합니다.
MP를 4.2 소비합니다.
Z+XC
기존 [리벤지 사이드] 액세서리의 Z+XC 기술을 사용하지만, 기술의 MP 소비량이 기존에 비해 -2.1만큼 감소합니다.
MP를 4.2 소비합니다.
B+XC
기존 [리벤지 사이드] 액세서리의 B+XC 기술을 사용하지만, 기술의 MP 소비량이 기존에 비해 -2.1만큼 감소합니다.
MP를 2.1 소비합니다.
커맨드(앞→뒤→앞)+XC
기존 [리벤지 사이드] 액세서리의 커맨드(앞→뒤→앞)+XC 기술을 사용하지만, 기술의 공격에 MP를 0.5씩 감소시키는 효과가 추가됩니다.
MP를 4.2 소비합니다.
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기술표
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- [ 펼치기·접기 ]
자신을 공격한 상대의 머리 위에는 일정시간 동안 [리벤지 마크]가 붙어있게 되며, 이 리벤지 마크가 붙은 상대를 특정한 기술로 공격하면 기술의 효과가 크게 바뀌게 됩니다. 단, 상대에게 리벤지 마크가 붙어있을 때 다른 상대에게 공격 당하면 이전 상대에게 붙어있던 리벤지 마크는 사라지고 다른 상대에게 붙게 됩니다. (리벤지 효과가 적용되는 기술의 경우 (R) 마크로 표시하였습니다.) X(R)-> X-> X-> XC (베기) 건틀렛을 휘둘러 상대를 띄우고 공중으로 띄운 상대를 향해 높게 점프하여 일격을 가하는 막강한 4단 공격 기술. 범위가 넓고 전부 맞출 경우 높은 데미지를 입힐 수 있습니다. 리벤지 효과는 1단계 만 해당합니다. 4회째 공격은 MP를 소비합니다. 리벤지 효과: 기술에 맞은 상대방의 경직이 커지고, 후 딜레이가 감소되어, C 공격으로도 추가타를 할 수 있게 됩니다. Z+C(R) (베기) 매우 빠른 속도로 돌진하여 상대방을 스쳐 지나가며 베기로 상대를 쓰러뜨립니다. 기술의 후 딜레이가 적은 편으로 견제기로 활용하기 좋습니다. MP를 소비하는 기술입니다. 리벤지 효과: 상대방에게 추가 공격을 하여 높이 띄웁니다. 이 때, 자신도 공중으로 점프하므로 점프 기술을 사용할 수 있습니다. Z+X(R) 강한 힘으로 상대를 붙잡아 지면에 매치는 기술입니다. 데미지는 낮지만 빠르게 사용할 수 있고, 추가타가 가능합니다. 단, 공중에 있는 대상을 잡을 수 없습니다. MP를 소비하는 기술입니다. 리벤지 효과: 지면에서 충격파가 솟아나와 상대방을 연타합니다. 공격력이 크게 상승합니다. V+XC(R) (베기) 지면을 크게 내려쳐 충격파가 솟아오르게 하는 기술입니다. 공격 범위가 넓지만 사용 전 약간의 딜레이가 있습니다. 넘어진 상대에게도 명중시킬 수 있는 기술입니다. MP를 소비하는 기술입니다. 리벤지 효과: 공격력이 증가하고, 공격판정이 변화하여 상대방을 멀리 날려버립니다. D+XC(R) (베기) 건틀렛을 앞세워 상대를 스쳐 지나가며 공격하는 기술. 맞은 대상은 한 박자 늦게 띄워지므로 추가타가 가능합니다. MP를 소비하는 기술입니다. 리벤지 효과: 상대를 붙잡고 큰 충격파를 일으켜 멀리 날려버립니다. B+XC (베기) 짧게 후퇴한 뒤 건틀릿을 재빠르게 휘둘러 상대를 기습하는 기술입니다. 명중한 대상에게는 리벤지 마크가 강제로 뜨게 됩니다. MP를 소비합니다. Z+XC (베기) 돌진하며 건틀렛을 휘둘러 상대를 공격합니다. 명중한 대상에게는 리벤지 마크가 강제로 뜨게 됩니다. MP를 소비하는 기술입니다.
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한국 유저의 아이디어('드림 프로젝트' 이벤트)를 기반으로 만들어진 액세서리. 이 액세서리의 아이디어를 제공한 유저는 이후 윈디소프트에 입사하여 GM이 되었다. 닉네임은 GM 지하철. 겟앰프드의 삭제된 투기장인 "겟앰배 커피 셔틀 대전"에도 등장했었다.
등에 붉은 대검을 메고 왼팔에는 날카로운 손톱이 달린 진홍색 건틀릿을 착용하는데.. 컨셉이 컨셉인지라 혹시
이 사람을 표절한 것이 아니냐는 의혹을 수도 없이 샀다.
'리벤지' 라는 특성을 가지고 있는데, 이것이 무엇이냐면 '가장 최근에 공격받은 상대를 보복하여 더욱 강한 공격으로 되돌려주는' 능력이다. 상대에게 공격을 받으면 공격을 가한 상대의 머리 위에 일정시간
[6] 리벤지 마크가 떠오르는데, 이 리벤지 마크가 떠오른 상대에게 '리벤지 강화' 에 대응하는 몇몇 공격들을 적중시키면 강화된 공격이 발동된다.
대미지도 짭짤하고 공격범위도 넓은 X공격, 발동속도가 빠르고 추가타도 가능한 Z+X, 지형을 무시하고 엄청나게 넓은 범위를 공격하는 V+XC, 단발이지만 선딜이 짧고 데미지도 엄청난 Z+XC 등 다채로운 기술을 보유하고 있어 딱히 리벤지를 활용하지 않더라도 어느 정도의 성능을 뽑을 수 있는 액세서리. 리벤지를 노려서 상대를 맵 밖으로 뻥뻥 날리는 재미도 쏠쏠하다.
허나, 난전에서는 이놈 저놈한테 공격 얻어맞기 바빠 리벤지 마크가 떠오른 상대만 쫓아가서 공격하는 것이 다소 어렵다. 리벤지 마크는 1:1 대전에서나 제 성능을 발휘하는 편.
2010년 12월 23일자로 업데이트로 상향되어, 일부 콤보 루트가 추가되고 상대에게 리벤지 마크를 달기가 쉬워졌다.
기술표
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- [ 펼치기·접기 ]
● [리벤지 크로우] 액세서리의 스페셜 버전으로 액세서리 외형 및 일부 기술에 차이가 있지만,
나머지 기술들은 모두 [리벤지 크로우] 액세서리와 동일합니다.
특수효과
기존 [리벤지 크로우] 액세서리의 특수효과를 사용하지만,
지속시간이 5초에서 10초로 강화됩니다.
특수 효과 히트가 1회에서 2회 사용 시 사라지도록 강화됩니다.
Z+C
기존 [리벤지 크로우] 액세서리의 Z+C 기술을 사용하지만,
기술의 MP 소비량이 기존에 비해 -2.1만큼 감소합니다.
MP를 2.1 소비합니다.
Z+X
기존 [리벤지 크로우] 액세서리의 Z+X 기술을 사용하지만,
기술의 MP 소비량이 기존에 비해 -2.1만큼 감소합니다.
MP를 2.1 소비합니다.
D+XC
기존 [리벤지 크로우] 액세서리의 D+XC 기술을 사용하지만,
전방의 상대를 자동으로 추격하도록 기술이 강화됩니다.
기술의 MP 소비량이 기존에 비해 -2.1만큼 감소합니다.
MP를 4.2 소비합니다.
V+XC
기존 [리벤지 크로우] 액세서리의 V+XC 기술을 사용하지만,
기술의 MP 소비량이 기존에 비해 -2.1만큼 감소합니다.
MP를 4.2 소비합니다.
Z+XC
기존 [리벤지 크로우] 액세서리의 Z+XC 기술을 사용하지만,
기술의 MP 소비량이 기존에 비해 -2.1만큼 감소합니다.
MP를 4.2 소비합니다.
B+XC
기존 [리벤지 크로우] 액세서리의 B+XC 기술을 사용하지만,
기술의 MP 소비량이 기존에 비해 -2.1만큼 감소합니다.
MP를 2.1 소비합니다.
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기술표
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- [ 펼치기·접기 ]
● 무기 아이템을 사용할 수 없습니다.
● 특수 능력: 리볼버 블릿
좌측 하단에 [잔여 탄약] UI가 표시됩니다.
C→C
발차기로 상대를 가볍게 밀어낸 다음 해머를 휘두르는 2단 공격입니다.
X
힘차게 해머를 휘두르는 공격입니다.
탄약이 장전되어 있는 상태에서 기술이 명중하면, 탄약 1발을 소비하여 밀쳐내 버립니다.
D+C
해머의 손잡이로 상대를 가볍게 밀어내는 기술입니다.
상대를 쓰러뜨리지 않기 때문에 Hit & Run 플레이에 적합합니다.
D+X
해머를 아래에서 위로 휘두르는 기술입니다.
탄약이 장전되어 있는 상태에서 기술이 명중하면, 탄약 1발을 소비하여 공중으로 띄워 올립니다.
V+C
해머를 내지르는 기술입니다.
일반 캐릭터의 V+C 기술과 성능이 비슷하지만, 전진 거리가 약간 더 깁니다.
V+X
해머를 위에서 아래로 휘두르는 기술입니다.
탄약이 장전되어 있는 상태에서 기술이 명중하면, 탄약 1발을 소비하여 내려친 후 바운드하여 반동으로 후퇴합니다.
Z+C(모으기)
해머를 지면에 고정시켜 매그넘을 발사하는 기술입니다.
근거리에도 판정이 있으며, [C] 버튼을 길게 유지하는 것으로 탄약이 있는 만큼 연사가 가능합니다.
기술 사용 시 MP를 3.0 소비합니다. (모으기 기술 사용 시 탄약 1발당 MP를 추가로 0.4씩 소비합니다.)
Z+X
해머를 지면에 내려치는 기술입니다.
지면을 내려칠 때 발생하는 충격파로 주위의 상대를 미끄러뜨릴 수 있습니다.
탄약이 장전되어 있는 상태에서 기술이 명중하면, 탄약 1발을 소비하여 공중으로 띄워 올립니다.
기술 발생 전에 슈퍼아머 효과가 있습니다.
MP 를 4.2 소비합니다.
D+XC
해머를 휘둘러 겁먹은 상대를 사격하는 기술입니다.
기술 명중 시 탄약 1발을 소비합니다.
MP 를 4.2 소비합니다.
탄약이 1발 남았을 때 D+XC
해머를 휘둘러 겁먹은 상대의 눈앞에 실린더를 돌려 사격하는 1/6의 확률게임 기술입니다.
실패했을 경우, 탄약을 소비하지 않고 상대의 MP를 4.2 감소시킵니다.
MP를 4.2 소비합니다.
V+XC
급강하하여 해머를 내리치는 기술입니다
지면을 내려칠 때 발생하는 충격파로 주위의 상대를 미끄러뜨릴 수 있습니다.
탄약이 2발 있을 경우, 밀어붙인 상대를 사격으로 띄우고 추가로 때리면 동시에 사격해 벽 바운드를 시킵니다.
MP를 4.2 소비합니다.
탄약이 소진된 경우 Z+XC
탄약을 보충하는 보조 기술입니다.
탄약을 한번에 6발 보충할 수 있습니다.
근거리에 약한 공격 판정이 있습니다.
MP를 소비하지 않습니다.
탄약이 Full인 경우 Z+XC
6발의 탄약을 모두 소비하는 난무 기술입니다.
방어할 수 없는 기술입니다.
MP를 4.2 소비합니다. (기술 명중 시 MP를 추가로 2.1 소비합니다.)
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기술표
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- [ 펼치기·접기 ]
● 무기 아이템을 사용할 수 없습니다.
● [리볼버 스매셔] 액세서리의 스페셜 버전으로 액세서리 외형 및 일부 기술에 차이가 있지만,
나머지 기술들은 모두 [리볼버 스매셔] 액세서리와 동일합니다.
C→C
기존 [리볼버 스매셔] 액세서리의 C→C 기술을 사용하지만,
2회째 공격의 타격 효과가 상대를 밀쳐내는 효과로 강화됩니다.
X
기존 [리볼버 스매셔] 액세서리의 X 기술을 사용하지만,
2회째 공격의 타격 효과가 상대를 날려버리는 효과로 강화됩니다.
V+X
기존 [리볼버 스매셔] 액세서리의 V+X 기술을 사용하지만,
2회째 공격의 타격 효과가 상대를 날려버리는 효과로 강화됩니다.
Z+C(모으기 가능)
기존 [리볼버 스매셔] 액세서리의 Z+C 기술을 사용하지만,
기술의 연사 속도가 기존에 비해 빨라집니다.
MP를 3.0 소비합니다. (모으기 기술 사용 시 탄약 1발당 MP를 추가로 0.4씩 소비합니다.)
Z+X
기존 [리볼버 스매셔] 액세서리의 Z+X 기술을 사용하지만,
2회째 공격의 타격 효과가 상대를 날려버리는 효과로 강화됩니다.
MP를 4.2 소비합니다.
V+XC
기존 [리볼버 스매셔] 액세서리의 V+XC 기술을 사용하지만,
기술의 MP 소비량이 기존에 비해 -1.2만큼 감소하고, 발생이 빨라집니다.
MP를 3.0 소비합니다.
탄약이 소진된 경우 Z+XC
기존 [리볼버 스매셔] 액세서리에 비해 장전 속도가 빨라집니다.
MP를 소비하지 않습니다.
탄약이 Full인 경우 Z+XC
기존 [리볼버 스매셔] 액세서리의 Z+XC 기술을 사용하지만,
기술의 MP 소비량이 기존에 비해 -2.1만큼 감소하고, 발생이 빨라집니다.
마지막 공격의 타격 효과가 상대를 멀리 날려버리는 효과로 강화됩니다.
기술 사용 시 슈퍼아머 효과가 발생합니다.
MP를 2.1 소비합니다. (기술 명중 시 MP를 추가로 2.1 소비합니다.)
커맨드(앞→뒤→앞)+XC
공중으로 도약하여 급속으로 탄약을 보충하는 보조 기술입니다.
MP를 1.0 소비합니다.
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패치 내역
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- [ 펼치기·접기 ]
- Z+C 모으기 기술 중에 방향을 전환할 수 있도록 조정했습니다. - D+XC 기술을 상대가 방어할 수 없도록 조정했습니다. - V+XC 기술을 상대가 방어할 수 없도록 조정했습니다.
2022년 11월 9일 업데이트 내역
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기술표
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- [ 펼치기·접기 ]
● 무기 아이템을 사용할 수 없습니다.
C→C
로우킥으로 공격 후 총의 손잡이로 공격하는 2단 기술입니다.
X→X→X
빠르게 총을 3번 발사합니다.
Co+C or X
손잡이 부분으로 때려서 다운시키는 기술입니다.
D+C
날렵한 무릎차기로 다운시키는 기술입니다.
D+X
전방으로 구른 후 사격하는 기술.
사격 자세에 들어가는 타이밍에 방향 전환이 가능합니다.
연속 공격 시 위력이 25%씩 감소합니다.
탄약이 없을 경우에는 재장전 기술을 사용합니다.
V+C
라이벌 캐릭터의 무릎 치기 공격입니다.
일반 및 퓨전 캐릭터가 착용해도 무릎 치기 공격을 사용합니다.
V+X
공중에서 3번 사격하는 기술입니다.
전방에 설치한 도구, 기계가 있으면 자동 조준하여 공격합니다.
탄약이 없는 경우는 V+C기술을 사용합니다.
Z+C(모으기 가능)
총알을 반사하는 도구를 던져 설치하는 기술입니다.
도구를 향해 총을 발사하면 총알이 가까운 적을 추적합니다.
총알은 어느 방향으로든 방어할 수 있습니다.
설치 시 공격 판정이 있습니다.
모으기로 더 멀리 설치할 수 있습니다.
기술을 연속해서 사용하면 먼저 설치한 도구가 사라지고 새로운 도구가 설치됩니다.
적의 공격으로 파괴될 수 있습니다.
MP를 1.0소비합니다.
Z+X
X보다 사거리가 강화된 사격을 하는 기술입니다..
이 기술의 탄환으로 반사된 탄은 전방에서만 방어할 수 있습니다.
탄약이 없을 경우에는 재장전 기술을 사용합니다.
MP를 2.1소비합니다.
D+XC
상대를 붙잡아 지면에 바운드 시키는 기술입니다.
도구, 폭탄 기계가 주위에 있는 경우 그 방향으로 바운드시킵니다.
MP를 2.1소비합니다.
V+XC
폭탄 기계를 던지는 기술입니다.
접근하면 방어 불가의 폭발이 발생합니다.
사격 시 가장 가까운 적을 추적하며 사격 횟수에 따라 위력이 증가합니다.
Z+X로 사격 시 이동거리가 증가합니다.
6발을 쏘면, 이동 후 폭발합니다.
기술을 연속해서 사용하면 먼저 설치한 폭탄 기계가 사라지고 새로운 폭탄 기계가 설치됩니다.
적의 공격으로 파괴될 수 있습니다.
MP를 2.1소비합니다.
탄소비시 Z+XC
탄약을 새로 넣고 새로 재장전합니다.
MP를 소비하지 않습니다.
Z+XC
총알을 부채꼴 모양으로 6연속 발사하는 범위 기술입니다.
모든 탄을 소비하며 6발을 소지하고 있을 경우에만 사용할 수 있습니다.
발생 전부터 슈퍼 아머가 있습니다.
근거리에서는 연속 공격이 가능합니다.
연속 공격 시 위력이 25%씩 감소합니다.
MP를 3.0소비합니다.
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기술표
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- [ 펼치기·접기 ]
● 무기 아이템을 사용할 수 없습니다.
● [리볼버 제트] 액세서리의 스페셜 버전으로 액세서리 외형 및 일부 기술에 차이가 있지만,
나머지 기술들은 모두 [리볼버 제트] 액세서리와 동일합니다.
C→C
기존 [리볼버 제트] 액세서리의 C→C 기술을 사용하지만,
2회째 공격의 타격 효과가 상대를 밀쳐내는 효과로 강화됩니다.
X
기존 [리볼버 제트] 액세서리의 X 기술을 사용하지만,
연속 공격 시 대미지가 감소하지 않습니다.
D+X→(XC)
기존 [리볼버 제트] 액세서리의 X 기술을 사용하지만,
기술 사용 중에 XC 버튼을 입력하여 Z+XC 기술로 파생할 수 있습니다.
파생 기술 사용 시 MP를 3.0 소비합니다.
V+X
기존 [리볼버 제트] 액세서리의 V+X 기술을 사용하지만,
연속 공격 시 대미지가 감소하지 않습니다.
Z+XC
기존 [리볼버 제트] 액세서리의 Z+XC 기술을 사용하지만,
연속 공격 시 대미지가 감소하지 않습니다.
MP를 3.0 소비합니다.
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19. 리스트릭션 애로우 ◆[편집]
기술표
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- [ 펼치기·접기 ]
● 무기 아이템을 사용할 수 없습니다.
▶ 특수 능력: 리스트릭션 마크
(★) 마크가 표시되어 있는 기술을 상대에게 명중시키면, 약 10초간 자신과 상대에게만 보이는 마법의 사슬로 연결됩니다.
사슬이 연결된 상태가 되면 ZZ로 일정시간 후 구속해 고속 접근하거나, 각 기술에 추격 성능이 부여됩니다.
사슬이 연결되는 것은 1명까지이며, 마지막에 연결된 사슬이 우선시됩니다.
사슬은 자신이 공격받으면 해제됩니다.
사슬로 연결되었을 때+ZZ
약 2초 후에 [리스트릭션 마크] 상태의 사슬을 구현화시켜 상대를 구속하는 기술입니다.
구속 시에 자신이 가까이 있어 행동 가능한 경우는 상대에게 고속 접근이 가능합니다.
단, 사슬이 상대를 구속하고 있는 상태에서는 모으기 기술을 사용할 수 없으며
다른 기술을 사용 중 일 때는 ZZ를 사용 할 수 없습니다.
MP를 2.1 소비합니다.
C→C→C→C
대거로 베어버리는 4단 공격입니다.
X→X(★)
활로 베어버리는 2단 공격입니다.
2타째가 명중한 경우 [리스트릭션 마크]가 부여됩니다.
D+C
대거로 전방을 베어버리는 공격입니다.
상대를 넘어뜨리지 않습니다.
D+X(모으기)(★)
활로 베어버리는 공격입니다.
모으기를 유지하면 베어버림과 동시에 자신도 공중으로 날아오릅니다.
모으기 기술 사용 시 MP를 2.1 소비합니다.
V+C
대거로 2연속 베어버리는 공격입니다.
V+X(★)
활로 사선 아래 방향을 베어버리는 공격입니다.
Z+C(모으기)
정면으로 화살을 쏘아 명중한 상대에게 고속 접근하여 베어버리는 기술입니다.
[리스트릭션 마크] 중 명중 시 상대를 정면으로 끌어 당겨 베어버린 후 시간차로 폭발시키는 파생기가 발동하며,
[리스트릭션 마크] 중 모으기를 유지하면 화살에 자동 추격 기능이 추가됩니다.
파생기로 떠오른 상대에게 추가 공격은 할 수 없습니다.
MP를 3.0 소비합니다. (파생기 발동 시 MP를 추가로 2.1 소비합니다.)
Z+X
사선으로 화살을 쏘아, 명중한 상대를 사슬로 끌어 당겨 지면에 내려치는 대공 기술입니다.
지상의 상대에게는 명중하지 않습니다.
명중 시 상대방의 기상 무적시간이 짧다는 특징이 있습니다.
MP를 1.0 소비합니다.
D+XC(★)
활로 정면을 휘두르고 이어서 대거로 벤 후 마지막은 강력한 화살로 공격하는 난무 기술입니다.
MP를 4.2 소비합니다.
B+XC
후방으로 도약한 후 사선 아래 방향으로 화살을 쏘아 명중한 상대에게 고속 접근하여 베어버리는 기술입니다.
도약한 순간 방향을 전환하는 것이 가능합니다.
MP를 3.0 소비합니다.
V+XC(모으기)
사선 아래로 화살을 쏘아 명중한 적에게 고속접근하여 베어버리는 기술입니다.
[리스트릭션 마크] 중 명중 시 상대를 향해 날아가 베어버린 후 시간차로 폭발시키는 파생기가 발동하며,
[리스트릭션 마크] 중 모으기를 유지하면 화살에 자동 추격 기능이 추가됩니다.
Z+C 와는 달리 파생기 명중 이후 떠오른 상대에게 추가 공격이 가능합니다.
MP를 4.2 소비합니다. (파생기 발동 시 MP를 추가로 2.1 소비합니다.)
Z+XC(모으기)
전방으로 5개의 화살을 쏘는 범위 기술입니다.
기술이 명중하면 추가로 상공에 대량의 화살을 발사합니다.
[리스트릭션 마크] 중 모으기를 유지하면 화살에 자동 추격 성능이 부여되어,
명중한 상대를 대량의 사슬로 연결한 후 폭발시킵니다.
MP를 4.2 소비합니다. (기술 명중 시 MP를 추가로 2.1 소비합니다.)
Co+C, Co+X
대거를 휘둘러 상대를 넘어뜨리는 반격 기술입니다.
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이 리스트릭션 애로우의 알파이자 오메가. 리스트릭션 애로우를 사용하고자 한다면 반드시 알고 있어야되는 시스템이라 할 수 있겠다. 상대방에게 공격을 성공시키면 상대방과 자신에게 체인이 연결 되는 상태가 되는데 이 상태에서 특정 기술을 사용하면 그 기술이 변형되어 여러가지 변칙 공격을 행할 수 있게 된다. 지속시간은 10초이며 한명 밖에 체인을 연결 시킬 수가 없으며 마지막에 연결된 체인이 우선된다. 또한 이 체인은 한대라도 공격받으면 체인은 해제된다. 그 만큼 이 체인 링크 상태의 관리가 중요하다. 이 상태에서 모으기 공격을 시전하면 거리가 얼마나 되든 사거리나 물리법칙따윈 아예 무시'''하는 매우 빠른 빛의 화살을 상대방에게 날린다. 이 유도 빛의 화살은 방어가 가능하며 궤도상에 장해물이 있을 시 그 장해물은 통과하지 못한다. 또, 전혀 엉뚱한 방향으로 기술을 시전해도 모으기를 하였다면 체인 링크된 상대방한테 자동으로 겨냥되어 필중의 화살을 날린다.
체인 링크 상태에서만 사용 할 수 있는 기술. 시전하면 3초 동안 상대방에게 체인이 서서히 감기면서 최후엔 순간적인 강제 경직을 준다. 그와 동시에 시전자가 상대방한테 곧장 날아오는 기술. 공격은 없는 단순한 포박용 기술이며, 날아온 뒤 이동키를 누르고 있으면 자동으로 대시상태가 된다. 이 기술은 이용하기가 매우 어려운편인데, 발동속도가 느린건 둘째치고 가드가 된다는 게 크나큰 단점. 게다가 일정거리 떨어져 있으면 발동 됐다해도 그 쪽으로 날아가지 않는다. 다른 기술과도 중첩이 되질 않고 상대방이 공중에 있을때도 발동이 되지만 날아갔을땐 상대방보다 밑으로 날아오므로 사실상 공격맞추기 힘들다. 마지막으로 날아들어올때의 시간이 너무 길다. 너무 길어서 기껏 경직을 먹어도 공격이 막히는 경우가 허다하다. 장인이 아닌 이상은 이걸 전부 극복해서 사용하기엔 힘든 기술.
활을 양쪽으로 분리시켜 쌍검 상태로 만든 뒤, 빠른 속도로 5단 베기를 시전한다. 끊어치기 매우 좋은 평타.
활 상태에서 두번 휭 베기를 시전한다. 여기서 둘째 타를 히트시키면 히트 당한 상대방에게 체인이 링크된다.
쌍검 상태로 빠르게 옆으로 베어버린다. 별다를 거 없는 공격이지만 상대방에게 히트해도 상대방은 쓰러지지 않는게 특징.
활 상태에서 어퍼로 상대방을 띄운다. 모으기를 시전하면 일정 MP를 소모해서 상대방을 더 높히 띄울 수 있으며 덤으로 시전자인 자신도 같이 뛰어오른다. 히트시 상대방과 체인 링크가 된다.
공중에서 활 상태인 채, 아래로 그어버린다. 상대방에게 히트 시, 체인 링크 상태가 된다. 여러모로 잘 이용해야되는 공격.
빛의 화살을 한 발, 빠르게 쏜다. 히트 시 상대방을 체인으로 묶어놓은 뒤 곧바로 상대방한테 날아가 활로 베어버린다. 일반적인 공격을 행하면 여느 활 악세가 그렇듯 아주 정직한 일직선 코스에 사거리가 활치고는 짧은 편이지만, 체인 링크 상태일때는 히트 시켰을 경우 공격이 변화가 되는데, 히트 시 체인을 자신의 앞까지 끌어와서 그대로 관통하여 베어버린 뒤, 그대로 상대방은 폭발하여 위로 띄워진다. 모으기를 하면 유도 성능의 빛의 화살을 쏜다.
대공 견제용 기술. 공중에다가 빛의 화살을 빠르게 쏜다. 히트 시 공중에 그대로 날아갈 뻔한 상대방을 체인으로 묶어 억지로 지면에 쳐박아둔다. 대공 견제용 기술이긴 하나, D+X나 모으기 V+XC를 히트시킨 뒤 콤보로 사용하는 기술이기도 하며, 지면에 있는 상대방한테 쏴봤자 절대 맞지 않는다.
활 상태에서 상대방한테 크게 벤다. 히트 시 자동으로 록온이 되며, 쌍검 상태로 난무 공격을 하다, 마지막엔 빛의 화살로 강하게 튕겨냄과 동시에 상대방을 체인 링크 상태로 만든다. 다만 아주 가끔 히트시켰는데 록온이 안된 채 바로 옆에서 공격을 맞다가 마지막 화살 공격이 아예 맞지않는 채로 공격이 끝나는 불상사가 일어나기도 한다.
브레이크 필살기, 급정지 후, 뒤로 도약한 뒤, 빛의 화살을 쏜다. 사실상 지상에서 쓰는 V+XC이지만, 모으기는 불가능하다. 어지간히 이 악세를 잘 다룰 자신이 없는 이상, 화살의 피격 판정이 매우 짠 편이므로 잘못 쓰다간 자살기가 될 수 있으니 사용시 주의.
쉽게 설명하자면, 공중에서 쓰는 Z+C라 할 수 있지만 체인 링크 상태에서는 핵심기술. 아래 대각선으로 빛의 화살을 쏜다, 히트 시 상대방을 사슬로 묶고 그대로 날아가서 베어버린다. 체인 링크 상태에서 공격이 변형되어 시전 시, 히트 성공하면 상대방한테 날아가서 활로 그대로 찍어내리고, 그 뒤 상대방은 폭발하여 위로 띄워진다. 이후 Z+X로 콤보 가능. 은근히 페이크에 유용한 기술인데, 체인 링크 상태에서의 모으기 기술 중 가장 좋은 기술이며, 모아서 쐈을 경우, 전혀 엉뚱한 데로 겨냥해도 높은 확률로 맞출 수 있는데다, 그러한 행위에 낚이는 경우도 꽤 있어서 의외로 이 기술에 사람들이 잘 걸려든다. 게다가 보기보다 막기도 애매한 타이밍으로 공격하는데다 결정적으로 이 기술만 모으기의 빛의 화살이 2단 히트라서 막았다 생각하고 가드를 풀었더니 아예 티가 안나는 둘째타에 당하는 경우도 많다. 여러모로 쓸만한 기술.
전방에 5발의 빛의 화살을 넓게 발사한다. 히트 시, 상대방은 조금 밀리고 다운, 그 자리에서 무수한 화살이 상대방한테 꽂힌다. 이 기술은 범위가 넓은데다 여러명한테 동시에 히트 가능하다. 또한, 발동속도가 생각보다 빨라서 상대방이 스탭을 끊을 수 있는 좋은 기술이므로 상대방이 스탭을 밟거나 그럴 싹수가 보인다하면 망설이지말고 이 Z+XC를 냅다 꽂아버리자. 체인 링크 상태에서 모으기 시전 시, 역시나 사거리, 물리법칙 무시의 매우 빠른 속도로 날아가는 유도 빛의 화살 한발을 쏜다. 히트시키면, 시작은 노말 상태처럼 쏴버리지만 이땐 화살이 아니라 체인을 쏘아서 무수한 체인들이 상대방에게 그대로 꽂힌 뒤, 마지막 공격으로 상대방을 폭발시켜서 위로 날려버린다. 아쉽게도 여기서 추가타는 불가능. 유의해야될 점은 위의 Z+C와 V+XC와는 다르게 모으기를 시전할때 발동 속도가 무척이나 느리다. 때문에 빈틈이 너무나도 많은 기술이라 개인전이 아닌 이상 함부로 사용하는 것은 매우 위험한 편. 유일하게 쓸만한 타이밍을 얘기하자면 체인 링크 공격으로는 Z+C나 V+XC로 주로 쓰고 Z+XC도 노말 버전으로만 쓰다가 상대방이 스탭을 밟을때 정말 뜬금없이 쓰도록 하자.
쌍검 상태에서 크게 휘둘러서 베어버린다. 여담으로 활 상태와 쌍검 상태의 가드 모션이 따로있다.
2016년 6월 22일에 새로 추가된 봉인된 상급 보물상자, RM 보급 상자의 악세사리. 외형은 여느 활 악세와는 다르게 꽤 멋있는 디자인이지만 공격 모션들이나 쌍검 모드등 쭉 훓어보면 어딜 어떻게 보더라도 모티브은 빼박
어느 작품의
이 녀석과
이거 인 듯 하다.
추천 캐릭터는 적당히 빠른 캐릭터면 전부 좋다. 특히 캐릭터가 빠르면 빠를 수록 좋으므로
닌자가 좋다. 악세가 생각보다 딜이 강한 편이라 닌자한테 껴도 딜을 꽤 넣을 수 있다.
위의 기술 설명에서도 말했지만, 체인 링크 상태의 모으기로 쏜 빛의 화살은 궤도에 장해물이라도 있지 않은 한
사거리나 물리법칙을 완전히 무시하여 반드시 상대방을 명중시킨다. 사거리는
무한대라고 생각하면 되는데. 메카신 대사원에서 리스트릭션 애로우와 냐소를 양쪽 끝에서 대치시킨 다음, 모으기 유도 빛의 화살 공격을 시전한 결과,
유도 빛의 화살이 반대편까지 닿았다!! 빛의 화살도 날아가는 속도가 어마어마하게 빠르다!! 즉, 반대편까지 닿는데 1초도 안걸린다. 결론은 궤도에 장해물이 없다면 거리가 얼마나 멀든간에 어디서든 맞출 수 있는 사실상 사거리 무한대 악세사리이다.
[7] 여담으로 원거리 공격 사거리가 가장 긴 기술을 가진 악세사리는 강빙궁. 다만 강빙궁도 화살을 한발 쏘면 메카신 반대편까지 닿을 수 있지만, 끝에서 끝까지는 닿지 않는다.
이 악세의 단점을 얘기하자면 공격 범위가 좁다. 특히 화살을 쏠 때 이 점을 자주 느낄 수 있는데 화살의 피격 판정이 정말 그 모양 그대로인 건가 의심스러울 정도로 피격 판정이 좁다. 조금만 옆에 있거나 멀리 있어도 화살은 피격되지 않는 경우를 심심찮게 볼 수 있다. 그러므로 체인 링크 상태가 아닌 이상, 노말 상태에서는 Z+C, V+XC, B+XC는 가급적 쓰지말고 접근전으로 상대하는 것을 추천한다. 또다른 단점은 어느 공격이든간에 번지력이 전무하다. 아니 거의 없다고 보면 된다. 즉, 이 리스트릭션 애로우는 번지용 악세가 아닌 스탭, 인파이트용 악세이므로 번지를 주 승리 요소로 잡는 사람이라면 이 악세의 사용은 비추천.
기술표
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● 무기 아이템을 사용할 수 없습니다.
● [리스트릭션 애로우] 액세서리의 스페셜 버전으로 액세서리 외형 및 일부 기술에 차이가 있지만,
나머지 기술들은 모두 [리스트릭션 애로우] 액세서리와 동일합니다.
● 사슬이 연결되어 있는 상태에서 상대에게 공격 당해도 끊어지지 않습니다.
● 사슬이 연결되어 있는 상태에서 ZZ 사용 시 MP를 소비하지 않습니다.
X→X
기존 [리스트릭션 애로우] 액세서리의 X→X기술을 사용하지만,
2회째 공격의 타격 효과가 상대를 밀쳐내는 효과로 강화됩니다.
D+X
기술의 성능이 기존 [리스트릭션 애로우] 액세서리의 D+X(모으기) 기술로 변경됩니다.
기존 D+X(모으기) 기술에 비해 발생이 빨라집니다.
MP를 소비하지 않습니다.
Z+C
기존 [리스트릭션 애로우] 액세서리의 Z+C기술을 사용하지만,
2회째 공격의 타격 효과가 상대를 밀쳐내는 효과로 강화됩니다.
D+XC
기존 [리스트릭션 애로우] 액세서리의 D+XC기술을 사용하지만,
해당 기술은 상대가 방어할 수 없습니다.
V+XC
기존 [리스트릭션 애로우] 액세서리의 V+XC기술을 사용하지만,
2회째 공격의 타격 효과가 상대를 밀쳐내는 효과로 강화됩니다.
Z+XC
전방으로 5개의 화살을 쏘아 상대를 멀리 날려버립니다.
해당 기술은 상대가 방어할 수 없습니다.
MP를 4.2 소비합니다.
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리스트릭션 애로우의 강화 버전 악세사리.
각 기술들이 원본인 리스트리션 애로우와 사실상 별 다른 차이점을 못느끼지만 딱 하나 바뀐 기술이 하나 있는데 바로 필살기인 Z+XC. 정말 심플하게 사기적으로 바뀌었는데 전방에 여러 방향의 화살을 쏘는 것 까진 같으나 사거리가 매우 길어진데다 가드 불가에 맞으면 파초선 Z+XC를 맞은 것 마냥 멀리 날아간다. 다만 위 판정은 없다시피 하므로 점프하면 회피가 가능하기에 완전히 사기적이라고 얘기하긴 힘들다.
기술표
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● 무기 아이템을 사용할 수 없습니다.
● 특수 효과: 사슬에 연결되어 있는 상대의 HP가 1씩 감소합니다.
Z+C
기존 [리스트릭션 애로우] 액세서리의 Z+C기술을 사용하지만,
2회째 공격의 효과가 상대를 불태워 날리도록 강화됩니다.
MP를 3.0 소비합니다. (파생기 발동 시 MP를 추가로 2.1 소비합니다.)
B+XC
기존 [리스트릭션 애로우] 액세서리의 B+XC기술을 사용하지만,
넘어진 상대를 공격할 수 있습니다.
동일 기술을 사용하여 연속으로 명중할 수 없습니다.
MP를 3.0 소비합니다.
D+XC
기존 [리스트릭션 애로우] 액세서리의 D+XC기술을 사용하지만,
기술 사용 시 전방의 상대를 자동 타겟하도록 강화됩니다.
마지막 공격의 효과가 상대를 불태워 날리도록 강화됩니다.
해당 기술은 상대가 방어할 수 없습니다.
V+XC
기존 [리스트릭션 애로우] 액세서리의 V+XC기술을 사용하지만,
2회째 공격의 효과가 상대를 불태워 날리도록 강화됩니다.
MP를 4.2 소비합니다. (파생기 발동 시 MP를 추가로 2.1 소비합니다.)
Z+XC(모으기)
기존 [리스트릭션 애로우] 액세서리의 Z+XC기술을 사용하지만,
해당 기술은 상대가 방어할 수 없습니다.
MP를 4.2 소비합니다. (기술 명중 시 MP를 추가로 2.1 소비합니다.)
커맨드(앞→뒤→앞)+XC
전방 3방향으로 불꽃이 붙은 화살을 발사하는 기술입니다.
화살이 지나간 자리에 불꽃이 남아 공격합니다.
해당 기술 사용 중 재사용할 수 없습니다.
MP를 4.2 소비합니다.
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기술표
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▶ 특수 능력: 마물 리치
대전 시작 시에는 모든 능력치 3, HP 1/4, MP 0 으로 매우 약하지만,
죽으면 리치로 변신하여 HP와 MP가 100%로 회복된 상태에서 부활하게 됩니다.
늦게 죽으면 죽을수록 강한 상태로 부활합니다.
1단계(대전 시작～15초 이내 사망): STR 2, TEC 5, SPD 4, JMP 3, DEF 3
2단계(15초～40초 이내 사망): STR 4, TEC 7, SPD 6, JMP 5, DEF 5 (Z+C 기술 사용 가능)
3단계(40초 이후 사망): STR 6, TEC 9, SPD 8, JMP 7, DEF 7 (Z+C, Z+X 기술 사용 가능)
맵에서 떨어져 사망했거나 또는 팀에 의해 사망할 경우에는 무조건 1단계 상태로 부활합니다.
또한, 고릴라로 변신 상태이거나 수인의 각성 중에는 부활하지 않습니다.
변신 상태에서는 상대(아군, NPC 포함)의 HP를 0으로 만들어 쓰러뜨릴 때마다 MP를 20% 회복하며,
다음 단계로 진화하는 효과가 있습니다.
● [리치] 변신 후 변화하는 기술:
C→C
지팡이로 때리는 2단 공격입니다.
X→X
지팡이를 휘둘러 냉기 마법으로 공격하는 2단 공격입니다.
냉기 마법의 공격을 당한 상대는 약 3초간 SPD, JMP 능력치가 1로 고정됩니다.
D+C
지팡이로 찔러 상대를 넘어뜨리는 공격입니다.
D+X
지팡이를 휘둘러 냉기 마법으로 공격합니다.
냉기 마법의 공격을 당한 상대는 약 3초간 SPD, JMP 능력치가 1로 고정됩니다.
V+C
기본 캐릭터의 엘보 공격입니다.
라이벌 캐릭터가 사용해도 엘보 공격을 사용합니다.
V+X
지팡이를 내려쳐 냉기 마법으로 공격합니다.
냉기 마법의 공격을 당한 상대는 약 3초간 SPD, JMP 능력치가 1로 고정됩니다.
Z+C
지면을 질주하는 얼음 기둥을 날리는 기술입니다.
냉기 마법의 공격을 당한 상대는 약 3초간 SPD, JMP 능력치가 1로 고정됩니다.
2단계 이상 변신일 때만 사용할 수 있습니다.
MP를 3.0 소비합니다.
Z+X
자신의 몸 주변에 약 8초간 냉기 마법을 두르는 기술입니다.
냉기 마법 공격의 닿은 상대는 약 3초간 SPD, JMP 능력치가 1로 고정됩니다.
3단계 변신일 때만 사용할 수 있습니다.
MP를 4.2 소비합니다.
D+XC
전방으로 냉기 브레스를 연속해서 내뿜는 기술입니다.
기술에 명중한 상대를 쓰러뜨리지 않기 때문에 상대를 압박하는 플레이에 적합합니다.
냉기 마법 공격의 닿은 상대는 약 3초간 SPD, JMP 능력치가 1로 고정됩니다.
MP를 4.2 소비합니다.
V+XC
사선 아래의 지면에서 얼음 기둥을 발생시키는 기술입니다.
기술에 맞고 공중으로 떠오른 상대에게 추가 타격을 가할 수 있습니다.
MP를 4.2 소비합니다.
Z+XC(모으기)
마법진을 전개하여 그 안에 있는 대상에게 1초마다 대미지를 주는 기술입니다.
[XC] 버튼을 유지하면 약 8초간 지속으로 사용할 수 있습니다.
버튼을 떼면 도중에 기술을 중단할 수 있습니다.
가드 할 수 없는 기술이기 때문에 상대를 느리게 만든 뒤에 사용하면 효과적입니다.
이 기술로 상대방을 쓰러뜨릴 수는 없습니다.
MP를 6.3 소비합니다.
Co+C, Co+X
지팡이를 휘둘러 상대를 쓰러뜨리는 반격 기술입니다.
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강력한 냉기 둔화를 구사할 수 있는 근중거리형 상점 액세서리. 처음엔 처참한 능력치로 게임을 시작하지만, 버티는 시간이 길어질 수록 더 강력한 스펙으로 부활해 적을 상대할 수 있는 독특한 컨셉의 액세서리다.
기술표
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● [리치 완드] 액세서리의 스페셜 버전으로 액세서리 외형 및 일부 기술에 차이가 있지만,
나머지 기술들은 모두 [리치 완드] 액세서리와 동일합니다.
● [리치] 변신 후 변화하는 기술 (1단계 : 대전 시작~ 10초 이내 사망)
STR 3, TEC 6, SPD 5, JMP 4, DEF 4
D+XC
기존 [리치 완드] 액세서리의 D+XC 기술을 사용하지만,
기술의 사거리가 늘어나며 판정이 약간 커지고 MP 소비량이 기존에 비해 -1.2만큼 감소합니다.
MP를 3.0 소비합니다.
V+XC
기존 [리치 완드] 액세서리의 V+XC 기술을 사용하지만,
기술의 발동 속도가 빨라지며 얼음의 판정이 약간 커지고, MP 소비량이 기존에 비해 -1.2만큼 감소합니다.
MP를 3.0 소비합니다.
Z+XC(모으기)
기존 [리치 완드] 액세서리의 Z+XC 기술을 사용하지만,
기술의 MP 소비량이 기존에 비해 -2.1만큼 감소합니다.
MP를 4.2 소비합니다.
● [리치] 변신 후 변화하는 기술 (2단계 : 10초 이상~30 이내 사망)
STR 5, TEC 8, SPD 7, JMP 6, DEF 6 (Z+C 기술 사용 가능)
Z+C
기존 [리치 완드] 액세서리의 Z+X 기술을 사용하지만,
기술의 사거리가 늘어나며 판정이 약간 커지고 MP 소비량이 기존에 비해 -1.2만큼 감소합니다.
3단계 리치 상태에서는 넘어진 상대를 공격할 수 있습니다.
MP를 3.0 소비합니다.
● [리치] 변신 후 변화하는 기술 (3단계 : 30초 이후 사망)
STR 7, TEC 10, SPD 9, JMP 8, DEF 8 (Z+C, Z+X 기술 사용 가능)
Z+X
기존 [리치 완드] 액세서리의 Z+X 기술을 사용하지만, 기술의 판정이 약간 커지고 리치에게 닿으면 적을 얼린 후 날려 버립니다.
MP를 3.0 소비합니다.
커맨드(앞→뒤→앞)+XC
바닥에 마법진을 생성하는 기술입니다.
상대가 마법진 근처에 적을 얼려버린 후 날려 버립니다.
마법진의 지속시간은 10초입니다.
MP를 4.2 소비합니다.
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기술표
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X→X(→XC)
칼로 베어버리는 2단 공격입니다.
2타째는 상대를 베고, 상대의 분신만을 띄우는 기술입니다.
2타째 이후, [XC] 버튼을 추가 입력하여 [Z+XC] 기술로 파생할 수 있습니다.
XC 파생 기술 사용 시 MP를 3.0 소비합니다.
D+X(→XC)
상대를 베고, 상대의 분신만을 띄우는 기술입니다.
[XC] 버튼을 추가 입력하여 [Z+XC] 기술로 파생할 수 있습니다.
XC 파생 기술 사용 시 MP를 3.0 소비합니다.
Z+C
죽은 자의 혼령을 베어날리는 충격적인 기술입니다.
혼령은 바운드하지 않고 바로 폭발합니다.
MP를 4.2 소비합니다.
Z+X(→XC)
몸을 수그린 상태에서 공격을 받으면 반격하는 카운터 기술입니다.
기술 명중 시 [XC] 버튼을 추가 입력하는 것으로 [Z+XC] 기술로 파생할 수 있습니다.
MP를 4.2 소비합니다.
D+XC(→XC)
팔꿈치 공격이 명중하면 피로 물든 침대에 눕혀 마구 베어버리는 난무 기술입니다.
이 기술로 상대의 HP를 0으로 만들어 쓰러뜨릴 때마다 사용자의 HP와 MP가 상승하고
DEF를 제외한 모든 능력치가 1 만큼 증가합니다.
연습모드 및 BOT 매치 이외의 NPC에게는 적용되지 않습니다.
기술 명중 시 [XC] 버튼을 추가 입력하는 것으로 [Z+XC] 기술로 파생할 수 있습니다.
MP 를 4.2 소비합니다. (기술 명중 시 MP를 추가로 2.1 소비합니다.)
V+XC
사선 아래 방향으로 떨어뜨린 사령을 베어버리는 기술입니다.
죽은 자의 혼령과 칼의 2단 공격이며 연속 Hit 할 수 있습니다.
혼령은 날아올라 방어 시에도 겹치는 위치에 낙하하여 폭발합니다.
MP를 4.2 소비합니다.
Z+XC
어둠에 스며들어 몸을 숨기고 약 4초간 자유롭게 이동합니다.
아래의 버튼을 입력하는 것으로 각종 파생 기술을 사용할 수 있습니다.
- C 파생 기술: 전방으로 찌르기 공격을 합니다.
- X 파생 기술: 주먹을 휘둘러 기술 명중한 상대를 베어버리는 방어 불능의 공격을 합니다.
[XC] 버튼을 추가 입력하는 것으로 MP를 소비하지 않고, 다시 한번 어둠으로 숨을 수 있습니다.
연속으로 5회 성공하면 HP와 MP가 상승하고 DEF를 제외한 [모든 능력치]가 1 만큼 증가합니다.
기술 사용 시 짧은 무적 시간이 발생합니다.
MP를 3.0 소비합니다.
커맨드(앞→뒤→앞)+XC(→XC)
전방에 죽은 자의 혼령 5명이 출현하게 되며, 사용자는 어둠 속으로 사라진 후, 연속으로 사령들을 베는 기술입니다.
혼령은 넘어뜨린 상대를 공격할 수 있으며, 참격과 혼령의 폭발로 2 HIT 할 수 있습니다.
완전히 사라질 무렵부터 무적 시간이 있습니다.
[XC] 버튼을 추가 입력하는 것으로 [Z+XC] 기술로 파생할 수 있습니다.
MP를 6.3 소비합니다.
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기술표
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● 무기 아이템을 사용할 수 없습니다.
● [검호]의 커맨드 발도 기술, [소서리스]의 채팅 마법 기술, [레슬러]의 커맨드 잡기 기술을 사용할 수 없습니다.
● 특수 능력: 부유
- 공중에서 [V] 버튼 입력을 지속하여 사용자의 착지 속도를 늦출 수 있습니다.
- 해당 특수 기술은 공중 기술 사용 직후에도 사용할 수 있지만, 공중에서 2회 이상 연속해서 사용할 수 없습니다.
C->C->C->C
검을 5회 휘둘러 상대를 베어내는 기술입니다.
1타째는 사용자 우측의 공격 범위가 넓습니다.
X->X
검으로 베어낸 상대를 띄워 올리는 2단 공격입니다.
2타째 공격을 상대가 방어하면 공격 판정이 연속해서 2회 발생합니다.
D+C
검을 수직으로 휘둘러 상대를 베어내는 기술입니다.
D+X
검을 비스듬하게 윗 방향으로 휘둘러 상대를 띄워 올리는 기술입니다.
기술을 맞고 공중으로 떠오른 상대에게 추가 공격을 가할 수 있습니다.
D+X(모으기)
공중으로 뛰어오르면서 검을 휘둘러 폭풍과 함께 상대를 베어내는 기술입니다.
기술에 맞고 공중으로 떠오른 상대는 매우 느린 속도로 떨어지게 되어, 이후 다양한 콤보로 연계할 수 있습니다.
이 기술을 사용해서 공중에 떠오른 이후에는 V+XC 기술을 1회만 사용할 수 있습니다.
공중의 상대에게 명중한 경우에는 타격 효과가 D+X 와 같이 약화됩니다.
MP를 4.2 소비합니다.
V+C
공중에서 검을 비스듬하게 아래 방향으로 휘둘러 상대를 베어내는 기술입니다.
V+X
공중에서 비스듬하게 아래 방향으로 회전하는 동시에 검을 휘둘러 상대를 베어내는 기술입니다.
상대를 경직시키기 때문에, 추가 공격을 이어나갈 수 있습니다.
공중의 상대에게 명중했을 때도 상대가 쓰러지지 않고 제자리에서 경직됩니다.
단, 이때는 사용자가 반동으로 뒤로 가볍게 튕겨져 나갑니다.
Z+C
양손에 들고 있는 검을 전방으로 던지는 기술입니다.
사용자 측면의 공격 판정이 넓습니다.
MP를 3.0 소비합니다.
Z+X
대기의 힘을 이용해 상대를 바람으로 감싸 띄워 올리는 특수한 기술입니다.
기술에 맞고 공중으로 떠오른 상대는 매우 느린 속도로 떨어지게 되어, 이후 다양한 콤보로 연계할 수 있습니다.
공중의 상대에게 명중한 경우에는 상대가 약한 대미지를 입고 지면에 바로 쓰러집니다.
MP를 4.2 소비합니다.
D+XC
돌진하며 검을 이용한 회전 난무 베기를 사용하는 기술입니다.
기술의 마지막 타격은 상대를 크게 경직시키기 때문에, 이후 추가 공격으로 연계할 수 있습니다.
기술 사용 중에 [XC] 버튼을 입력하면 기술을 중단할 수 있습니다.
공중의 상대에게 명중한 경우에는 상대가 약한 대미지를 입고 지면에 바로 쓰러집니다.
MP를 5.0 소비합니다.
V+XC
공중에서 비스듬하게 아래 방향으로 바람 구체를 발사하는 기술입니다.
기술을 맞고 공중으로 떠오른 상대에게 공중 기술로 추가 공격을 가할 수 있습니다.
공중에서 연속해서 최대 2회까지 사용할 수 있습니다.
D+X(모으기) 기술을 사용해 공중에 떠오른 이후에는 V+XC 기술을 1회만 사용할 수 있습니다.
MP를 4.2 소비합니다.
Z+XC
대기의 힘을 이용해 특수한 바람 구체 형태의 트랩을 설치하는 기술입니다.
기술에 맞고 공중으로 떠오른 상대는 매우 느린 속도로 떨어지게 되어, 이후 다양한 콤보로 연계할 수 있습니다.
D+X(모으기), Z+X 기술과는 달리, 공격을 2회 맞을 때까지 특수 효과가 적용됩니다.
공중의 상대가 트랩 공격에 맞는 경우에는 대미지는 입지 않지만, 특수 효과는 적용됩니다.
트랩을 설치한 상태에서 해당 기술을 연속해서 사용하면, 이전에 설치했던 트랩은 소멸되고 새로운 트랩이 설치됩니다.
사용자도 트랩에 근접하면 공격 당하기 때문에 주의가 필요합니다. 단, 대미지는 입지 않습니다.
MP를 4.2 소비합니다.
Co+C, Co+X
검을 가볍게 휘둘러 상대를 베어내는 기술입니다.
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기술표
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● 특수 효과: 블래스트셋
비트가 설치되어 있는 상태에서 일부 기술을 사용하면
설치된 모든 비트가 사용자를 향해 연쇄 레이저가 발동됩니다.
이 능력이 적용되는 기술에 대해서는 (★) 마크로 표시해두었습니다.
Z+C(모으기)
6개의 비트를 전개하여 연쇄 레이저를 발동하는 기술입니다.
이 비트를 이용한 연쇄 레이저는 전방의 상대를 약간 추격하는 성능을 가지고 있습니다.
모으기 기술로 사용하면 지속 시간이 길어져 연속 2Hit 할 수 있습니다.
이미 비트가 설치되어 있는 상태에서 기술을 사용하면 설치된 비트를 서로 연계하는 연쇄 레이저가 발동됩니다.
MP를 2.1 소비합니다. (모으기 기술로 사용하면 MP를 3.0 소비합니다.)
Z+X(모으기)
전방에 1개의 비트를 설치하는 기술입니다.
기술을 모으기로 사용하면 3개의 비트를 설치합니다.
비트는 최대 6개까지 설치가 가능합니다.
MP를 1.0 소비합니다. (모으기 기술로 사용하면 MP를 2.1 소비합니다.)
커맨드(앞→뒤→앞)+C
전방에 6개의 비트를 던지며 동시에 연쇄 레이저를 발동하는 기술입니다.
이후 던져진 6개의 비트는 설치된 상태로 유지됩니다.
MP를 3.0 소비합니다.
커맨드(앞→뒤→앞)+X
전방 상단으로 6개의 비트를 던지며 동시에 연쇄 레이저를 발동하는 기술입니다.
이후 던져진 6개의 비트는 설치된 상태로 유지됩니다.
MP를 2.1 소비합니다.
D+XC (★)
전방에 육각형 모양으로 비트를 전개하는 기술입니다.
비트가 명중하면 이후 연쇄 레이저를 발동하여 상대를 날려 버립니다.
기술 사용 시 슈퍼아머 효과가 발생합니다.
MP를 4.2 소비합니다.
V+XC (★)
전방에 육각형 모양으로 비트를 전개하여 수직 아래 방향으로 연쇄 레이저를 발동하는 기술입니다.
MP를 3.0 소비합니다.
Z+XC (★)
전방에 육각형 모양으로 비트를 전개하여 6방향으로 연쇄 레이저를 발동하는 기술입니다.
연쇄 레이저 발동 시 무적 상태가 됩니다.
해당 기술은 상대가 방어할 수 없습니다.
MP를 4.2 소비합니다.
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기술표
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● [리플렉트 플리터] 액세서리의 스페셜 버전으로 액세서리 외형 및 일부 기술에 차이가 있지만, 나머지 기술들은 모두 [리플렉트 플리터] 액세서리와 동일합니다. D+XC 기존 [리플렉트 플리터] 액세서리의 D+XC 기술을 사용하지만, 기술을 방어할 수 없습니다. MP를 4.2 소비합니다. V+XC 기존 [리플렉트 플리터] 액세서리의 V+XC 기술을 사용하지만, 기술의 MP 소비량이 기존에 비해 -0.9만큼 감소합니다. MP를 2.1 소비합니다. Z+XC 기존 [리플렉트 플리터] 액세서리의 Z+XC 기술을 사용하지만, 기술의 발생이 기존에 비해 빨라집니다. MP를 4.2 소비합니다. 커맨드(앞→뒤→앞)+C 기존 [리플렉트 플리터] 액세서리의 커맨드(앞→뒤→앞)+C 기술을 사용하지만, 기술의 MP 소비량이 기존에 비해 -1.0만큼 감소합니다. MP를 2.0 소비합니다. 커맨드(앞→뒤→앞)+X 기존 [리플렉트 플리터] 액세서리의 커맨드(앞→뒤→앞)+X 기술을 사용하지만, 기술의 MP 소비량이 기존에 비해 -1.0만큼 감소합니다. MP를 2.0 소비합니다. 커맨드(앞→뒤→앞)+XC 파일:스칼렛 플리터 커맨드 기술.gif
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패치 내역
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- 커맨드(앞→뒤→앞)+XC 기술을 추가했습니다.
2022년 11월 9일 업데이트 내역
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기술표
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ZZ
스프링 다리에 힘을 모아 다음 점프의 높이가 증가합니다.
MP를 소비하지 않습니다.
C→C→C
주먹으로 가볍게 2회 공격한 뒤 스프링을 늘려 발차기로 공격하는 기술입니다.
3타째 공격 시 모으기로 사용하면 공격 거리, 대미지, 타격 효과가 강화됩니다.
3타째 공격을 모으기로 사용 시 슈퍼아머 효과가 발생합니다.
X→X
보디 블로를 한 후 스프링을 늘려 어퍼로 공격하는 기술입니다.
2타째 공격 시 모으기로 사용하면 공격 거리, 대미지, 타격 효과가 강화됩니다.
2타째 공격을 모으기로 사용 시 슈퍼아머 효과가 발생합니다.
D+C
위아래로 나란히 더블 펀치를 날려 상대를 경직시키는 기술입니다.
기술을 모으기로 사용하면 공격 거리, 대미지, 타격 효과가 강화됩니다.
기술을 모으기로 사용 시 슈퍼아머 효과가 발생합니다.
D+X
살짝 도약하며 어퍼로 띄우는 기술입니다.
기술을 모으기로 사용하면 공격 거리, 대미지, 타격 효과가 강화됩니다.
기술을 모으기로 사용 시 슈퍼아머 효과가 발생합니다.
V+X
대각선으로 양 발을 모아서 찬 후 적을 튕겨내는 기술입니다.
기술을 모으기로 사용하면 공격 거리, 대미지, 타격 효과가 강화됩니다.
기술을 모으기로 사용 시 슈퍼아머 효과가 발생합니다.
Z+C
스프링을 늘려 전방을 펀치로 강하게 가격하는 기술입니다.
기술을 모으기로 사용하면 공격 거리, 대미지, 타격 효과가 강화됩니다.
기술을 모으기로 사용 시 슈퍼아머 효과가 발생합니다.
MP를 2.1 소비합니다. (모으기 기술 사용 시 MP를 3.0 소비합니다.)
Z+X
팔을 뻗어 전방을 후려치는 기술입니다.
기술을 모으기로 사용하면 3연속 스프링을 휘두르는 공격으로 강화됩니다.
기술을 모으기로 사용 시 슈퍼아머 효과가 발생합니다.
MP를 3.0 소비합니다. (모으기 기술 사용 시 MP를 4.2 소비합니다.)
D+XC
상대를 붙잡아 스프링을 뒤로 당긴 뒤 강력한 발차기로 날려버리는 기술입니다.
기술을 모으기로 사용하면 상대의 팔을 좌우로 잡아당겨 고통을 주는 기술로 강화됩니다.
기술을 모으기로 사용하면 상대가 방어할 수 없습니다.
기술을 모으기로 사용 시 슈퍼아머 효과가 발생합니다.
MP를 4.2 소비합니다.
V+XC
공중에서 양다리로 지면을 차 충격파로 띄워 올리는 기술입니다.
스프링 차지(ZZ)로 점프 강화를 한 후 사용하면 기술의 대미지가 증가합니다.
MP를 4.2 소비합니다.
Z+XC
제자리에서 박치기로 빠르게 돌진하는 난무 기술입니다.
기술이 명중하면 상대를 벽에 몰아 붙인 뒤 엄청난 횟수의 펀치로 공격합니다.
기술 사용 시 방향키를 입력하여 공격 방향을 임의로 전환할 수 있습니다.
기술 사용 시 슈퍼아머 효과가 발생합니다.
MP를 4.2 소비합니다. (기술 명중 시 MP를 추가로 2.1 소비합니다.)
Co+C, Co+X
스프링을 늘려 발차기로 공격하는 반격 기술입니다.
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스프리건과 최강, 최고의 궁합을 자랑한다. 림 스프링은 성능은 훌륭하지만 공중 공격 시전 후 빈틈이 큰 편이라 노림수에 당할 수 있는데 스프리건에다가 착용하면 공중 대시를 이용하여 그 자리에서 바로 피하거나 바로 역으로 반격 할 수 있게 만들어서 안정성이 크게 향상된다. 사실상 캐릭터 자체가 악세의 단점을 없애주는 식이다.
해당 악세사리의 성능 자체는 거래소에서 저렴하게 구할 수 있는 악세치고는 매우 훌륭하다. 공중 공격 중에 무적도 있으며 공중이든 지상이든 상대를 멀리 날려버릴 수 있는 기술들을 두루 갖춰서 번지력도 좋으며 공중 전용 악세사리라서 상대하기 까다로운 것도 있다. 문제는 대부분의 공격이 공중에 치중되어 있어서 쉽사리 건들지 못하는데다
[9] 파계승이나 쥬즈마루를 이용하면 되지 않겠냐 싶지만 위에 서술했듯이 공격 시에는 무적이라서 공중 카운터조차 림 스프링한테는 안먹힌다.
이걸 공중 대쉬가 가능한 스프리건에다가 착용하면 사기성은 둘째치고 공중에서 내려올 생각을 하지 않는 더러운 플레이에 상대방 입장에서는 상대하기가 매우 싫어진다. 때문에 혈압 오르는 일을 겪고 싶지 않다면 정신건강을 위하여
'림 스프링은 착용 허용하되 스프리건에만 착용하지 마라.' 라고 미리 얘기하는 것이 좋다.
그리고 십중팔구 그냥 나가거나 아예 다른 악세를 착용하는걸 볼 수 있다.손, 발이 자유자재로 늘어나는 공격과 러쉬 공격을 하는 것을 보고 눈치챘을테지만 해당 악세사리의 모티브는 역시
그 해적왕 후보로 보인다.
기술표
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● [림 스프링] 액세서리의 스페셜 버전으로 액세서리 외형 및 일부 기술에 차이가 있지만,
나머지 기술들은 모두 [림 스프링] 액세서리와 동일합니다.
C→C→C
기존 [림 스프링] 액세서리의 C→C→C 기술을 사용하지만,
3회째 공격이 림 스프링의 모으기 기술을 사용합니다.
X→X
기존 [림 스프링] 액세서리의 X→X 기술을 사용하지만,
2회째 공격이 림 스프링의 모으기 기술을 사용합니다.
D+C
기존 [림 스프링] 액세서리의 D+C 기술을 사용하지만,
림 스프링의 모으기 기술을 사용합니다.
V+X
기존 [림 스프링] 액세서리의 V+X 기술을 사용하지만,
림 스프링의 모으기 기술을 사용합니다.
Z+C
기존 [림 스프링] 액세서리의 Z+C 기술을 사용하지만,
림 스프링의 모으기 기술을 사용합니다.
D+XC
기존 [림 스프링] 액세서리의 D+XC 기술을 사용하지만,
해당 기술은 상대가 방어할 수 없습니다.
Z+XC
기존 [림 스프링] 액세서리의 Z+XC 기술을 사용하지만,
해당 기술은 상대가 방어할 수 없습니다.
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림 스프링 액세서리의 강화판 액세서리이다. 원본과 다른 점은 원본의 몇몇 모으기 기술들을 모으지 않고 즉시 발동가능한 성능을 가졌으나 D+X는 모으기 즉발 성능이 적용되지 않아서 테스트서버 시절 가능했던 콤보들이 막혀서 많이 약해졌다. 그러나 원본 림 스프링부터가 상당히 강력한 악세이고, Z+XC의 가불 하나만으로도 강해진 값을 한다.
D+XC의 경우 모을 시 판정만 강화되는 다른 기술과 달리 통상과 모으기의 기술 성질이 다르다보니 플렉스 스프링 역시 D+XC는 통상과 모으기가 분리되어 있다. 다만 모으지 않아도 가드 불능이 붙었다.
모으는 기능 자체는 여전히 건재해서, 성능은 바뀌지 않지만 모음으로써 기술의 타이밍을 조절할 수도 있다.
여담으로 이 액세서리는 상자뽑기 상품으로 출시한 지 고작 3개월 정도가 지난 후에 18주년 이벤트 배포 선택 상품 목록에 포함되어 3개월전에 액세서리를 구입한 사람에게 큰 박탈감을 안겨준 적이 있는 액세서리이다. 겟앰프드의 원본이 있는 강화판 액세서리들은 어차피 시간이 지나면 이벤트로 다 배포해왔지만 3개월이라는 짧은 기간만에 희소성이 사라진 것에 대해 겟앰프드 커뮤 등지에서 큰 불만의 목소리가 나오기도 했다.
[각주]
상위 문서: 겟앰프드/액세서리/ㄹ 
